Laufsuszeptor aus mit Siliziumkarbid beschichtetem Graphit

Der mit Siliziumkarbid beschichtete Graphit von Semicorex Barrel Susceptor ist eine spezielle Komponente, die für den Einsatz im Epitaxieprozess, insbesondere zum Tragen von Wafern, entwickelt wurde. Dieser mit Siliziumkarbid beschichtete Graphit-Fasssuszeptor ist aus Graphitmaterial gefertigt, das für seine hervorragende Wärmeleitfähigkeit und Stabilität bei hohen Temperaturen bekannt ist. Um seine Leistung und Haltbarkeit zu verbessern, ist die Graphitoberfläche mit einer Schicht aus Siliziumkarbid (SiC) beschichtet.

Die Siliziumkarbidbeschichtung von Barrel Susceptor Silicon Carbide Coated Graphite dient in diesem Zusammenhang mehreren entscheidenden Zwecken. Erstens bietet es eine zusätzliche Schutzschicht für das darunter liegende Graphitsubstrat und schützt es vor chemischen Reaktionen und Verschleiß, die während des Epitaxieprozesses auftreten können. Zweitens verbessert die SiC-Beschichtung die thermischen Eigenschaften des mit Barrel Susceptor Siliziumkarbid beschichteten Graphits und ermöglicht so eine effiziente und gleichmäßige Erwärmung der Wafer. Diese gleichmäßige Erwärmung ist für die Erzielung gleichmäßiger und qualitativ hochwertiger Epitaxieschichten auf den Halbleiterwafern unerlässlich.

Das Design des Barrel Susceptor Silicon Carbide Coated Graphite ist für den sicheren Halt und Transport mehrerer Wafer während des Epitaxieprozesses optimiert. Seine fassartige Struktur ermöglicht ein einfaches Be- und Entladen von Wafern und sorgt gleichzeitig für eine ordnungsgemäße Wärmeverteilung und thermische Stabilität während des Betriebs.

Insgesamt stellt der mit Siliziumkarbid beschichtete Graphit des Barrel Susceptor eine entscheidende Komponente in Epitaxiegeräten dar und bietet Zuverlässigkeit, Haltbarkeit und präzise Wärmekontrolle, die für die Produktion fortschrittlicher Halbleiterbauelemente unerlässlich sind.