Suszeptoren für MOCVD-Reaktoren

Die Suszeptoren für MOCVD-Reaktoren von Semicorex sind hochwertige Produkte, die in der Halbleiterindustrie für verschiedene Anwendungen wie Siliziumkarbidschichten und Epitaxiehalbleiter verwendet werden. Unser Produkt ist in Zahnrad- oder Ringform erhältlich und wurde für eine Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen entwickelt, sodass es bei Temperaturen von bis zu 1600 °C stabil ist.

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Produktbeschreibung

Unsere Suszeptoren für MOCVD-Reaktoren werden durch chemische CVD-Gasphasenabscheidung unter Hochtemperatur-Chlorierungsbedingungen hergestellt, um eine hohe Reinheit zu gewährleisten. Die Oberfläche des Produkts ist dicht, mit feinen Partikeln und hoher Härte, wodurch es korrosionsbeständig gegenüber Säuren, Laugen, Salzen und organischen Reagenzien ist.
Unsere Suszeptoren für MOCVD-Reaktoren sind so konzipiert, dass sie eine Beschichtung auf allen Oberflächen gewährleisten, ein Abblättern verhindern und das beste laminare Gasströmungsmuster erzielen. Das Produkt garantiert ein gleichmäßiges Wärmeprofil und verhindert die Diffusion von Verunreinigungen oder Verunreinigungen während des Prozesses, wodurch qualitativ hochwertige Ergebnisse gewährleistet werden.
Bei Semicorex legen wir großen Wert auf die Kundenzufriedenheit und bieten kostengünstige Lösungen. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner zu werden, der qualitativ hochwertige Produkte und außergewöhnlichen Kundenservice liefert.

Parameter von Suszeptoren für MOCVD-Reaktoren

Hauptspezifikationen der CVD-SIC-Beschichtung
SiC-CVD-Eigenschaften
Kristallstruktur	FCC-β-Phase
Dichte	g/cm³	3.21
Härte	Vickershärte	2500
Körnung	μm	2~10
Chemische Reinheit	%	99.99995
Wärmekapazität	J kg-1 K-1	640
Sublimationstemperatur	℃	2700
Biegekraft	MPa (RT 4-Punkt)	415
Elastizitätsmodul	Gpa (4-Punkt-Biegung, 1300 ℃)	430
Wärmeausdehnung (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Wärmeleitfähigkeit	(W/mK)	300

Merkmale des SiC-beschichteten Graphitsuszeptors für MOCVD

- Vermeiden Sie ein Abblättern und stellen Sie sicher, dass die Beschichtung auf der gesamten Oberfläche vorhanden ist
Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen: Stabil bei hohen Temperaturen bis zu 1600 °C
Hohe Reinheit: hergestellt durch CVD-chemische Gasphasenabscheidung unter Hochtemperatur-Chlorierungsbedingungen.
Korrosionsbeständigkeit: hohe Härte, dichte Oberfläche und feine Partikel.
Korrosionsbeständigkeit: Säure, Alkali, Salz und organische Reagenzien.
- Erzielen Sie das beste laminare Gasströmungsmuster
- Gewährleistung der Gleichmäßigkeit des thermischen Profils
- Verhindern Sie jegliche Kontamination oder Diffusion von Verunreinigungen