SiC-beschichtete Semicorex-Plattenträger für MOCVD sind hochwertige Träger, die für den Einsatz im Halbleiterherstellungsprozess entwickelt wurden. Seine hohe Reinheit, ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit und sein gleichmäßiges thermisches Profil machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für diejenigen, die einen Träger suchen, der den Anforderungen des Halbleiterherstellungsprozesses standhalten kann.
Unsere SiC-beschichteten Plattenträger für MOCVD zeichnen sich durch eine hohe Reinheit aus, was sie zu einer ausgezeichneten Wahl für diejenigen macht, die nach einem Träger suchen, der in seinen Eigenschaften sehr gleichmäßig und konsistent ist.
Unsere SiC-beschichteten Plattenträger für MOCVD werden mit einer hochreinen Siliziumkarbidbeschichtung auf Graphit hergestellt, die sie bei hohen Temperaturen von bis zu 1600 °C sehr oxidationsbeständig macht. Das bei seiner Herstellung verwendete chemische CVD-Dampfabscheidungsverfahren gewährleistet eine hohe Reinheit und eine hervorragende Korrosionsbeständigkeit. Es ist sehr korrosionsbeständig, mit einer dichten Oberfläche und feinen Partikeln, wodurch es beständig gegen Säuren, Laugen, Salz und organische Reagenzien ist. Seine Hochtemperatur-Oxidationsbeständigkeit gewährleistet Stabilität bei hohen Temperaturen bis zu 1600 °C.
Parameter SiC-beschichteter Plattenträger für MOCVD
Hauptspezifikationen der CVD-SIC-Beschichtung |
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SiC-CVD-Eigenschaften |
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Kristallstruktur |
FCC β-Phase |
|
Dichte |
g/cm³ |
3.21 |
Härte |
Vickers-Härte |
2500 |
Körnung |
μm |
2~10 |
Chemische Reinheit |
% |
99.99995 |
Wärmekapazität |
J·kg –1 ·K –1 |
640 |
Sublimationstemperatur |
℃ |
2700 |
Biegefestigkeit |
MPa (RT 4-Punkt) |
415 |
Elastizitätsmodul |
Gpa (4pt Biegung, 1300â) |
430 |
Wärmeausdehnung (CTE) |
10-6K-1 |
4.5 |
Wärmeleitfähigkeit |
(W/mK) |
300 |
Merkmale des SiC-beschichteten Graphitsuszeptors für MOCVD
- Ablösen vermeiden und Beschichtung auf allen Oberflächen sicherstellen
Hochtemperatur-Oxidationsbeständigkeit: Stabil bei hohen Temperaturen bis zu 1600 °C
Hohe Reinheit: Hergestellt durch CVD-CVD unter Hochtemperatur-Chlorierungsbedingungen.
Korrosionsbeständigkeit: hohe Härte, dichte Oberfläche und feine Partikel.
Korrosionsbeständigkeit: Säure, Alkali, Salz und organische Reagenzien.
- Erzielen Sie das beste laminare Gasströmungsmuster
- Gewährleistung der Gleichmäßigkeit des thermischen Profils
- Verhindern Sie jegliche Kontamination oder Diffusion von Verunreinigungen