Der Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor ist ein äußerst langlebiges und zuverlässiges Produkt zum Aufwachsen epixieller Schichten auf Wafer-Chips. Aufgrund seiner Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen und seiner hohen Reinheit eignet es sich für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Sein gleichmäßiges thermisches Profil, das laminare Gasströmungsmuster und die Vermeidung von Kontaminationen machen es zur idealen Wahl für das Wachstum hochwertiger Epixieschichten.
WeiterlesenAnfrage absendenWenn Sie einen Graphitsuszeptor mit außergewöhnlichen Wärmeleitfähigkeits- und Wärmeverteilungseigenschaften benötigen, sind Sie beim induktiv beheizten Zylinder-Epi-System von Semicorex genau richtig. Seine hochreine SiC-Beschichtung bietet hervorragenden Schutz in Hochtemperatur- und korrosiven Umgebungen und macht es zur idealen Wahl für den Einsatz in Halbleiterfertigungsanwendungen.
WeiterlesenAnfrage absendenWenn Sie einen Graphitsuszeptor benötigen, der selbst in den anspruchsvollsten Hochtemperatur- und Korrosionsumgebungen zuverlässig und konstant funktioniert, ist der Semicorex Barrel Susceptor für die Flüssigphasenepitaxie die perfekte Wahl. Seine Siliziumkarbidbeschichtung sorgt für eine hervorragende Wärmeleitfähigkeit und Wärmeverteilung und gewährleistet so eine außergewöhnliche Leistung bei Anwendungen in der Halbleiterfertigung.
WeiterlesenAnfrage absendenMit seiner überlegenen Dichte und Wärmeleitfähigkeit ist der Semicorex SiC-beschichtete Zylindersuszeptor für epitaktisches Wachstum die ideale Wahl für den Einsatz in Hochtemperatur- und korrosiven Umgebungen. Dieses mit hochreinem SiC beschichtete Graphitprodukt bietet hervorragenden Schutz und Wärmeverteilung und sorgt so für eine zuverlässige und konstante Leistung bei Anwendungen in der Halbleiterfertigung.
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