Die SiC-beschichtete RTP-Trägerplatte von Semicorex für epitaktisches Wachstum ist die perfekte Lösung für Anwendungen zur Halbleiterwaferverarbeitung. Mit seinen hochwertigen Kohlenstoff-Graphit-Suszeptoren und Quarztiegeln, die durch MOCVD auf der Oberfläche von Graphit, Keramik usw. verarbeitet werden, ist dieses Produkt ideal für die Wafer-Handhabung und epitaktische Wachstumsverarbeitung. Der mit SiC beschichtete Träger gewährleistet eine hohe Wärmeleitfähigkeit und hervorragende Wärmeverteilungseigenschaften und ist somit eine zuverlässige Wahl für RTA-, RTP- oder aggressive chemische Reinigung.
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex ist ein großer Hersteller und Lieferant von mit Siliziumkarbid beschichteten Graphitsuszeptoren in China. Semicorex-Graphitsuszeptor, der speziell für Epitaxiegeräte mit hoher Hitze- und Korrosionsbeständigkeit in China entwickelt wurde. Unser RTP RTA SiC-beschichteter Träger hat einen guten Preisvorteil und deckt viele europäische und amerikanische Märkte ab. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenDer Semicorex RTP-Träger für MOCVD-Epitaxiewachstum ist ideal für Halbleiter-Wafer-Verarbeitungsanwendungen, einschließlich Epitaxiewachstum und Wafer-Handling-Verarbeitung. Kohlenstoffgraphitsuszeptoren und Quarztiegel werden durch MOCVD auf der Oberfläche von Graphit, Keramik usw. verarbeitet. Unsere Produkte haben einen guten Preisvorteil und decken viele europäische und amerikanische Märkte ab. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenDie ICP-Ätzträgerplatte von Semicorex ist die perfekte Lösung für anspruchsvolle Waferhandhabung und Dünnschichtabscheidungsprozesse. Unser Produkt bietet hervorragende Hitze- und Korrosionsbeständigkeit, gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit und laminare Gasströmungsmuster. Mit einer sauberen und glatten Oberfläche eignet sich unser Träger perfekt für die Handhabung makelloser Waffeln.
WeiterlesenAnfrage absendenDie SiC-Platte von Semicorex für den ICP-Ätzprozess ist die perfekte Lösung für hohe Temperaturen und raue chemische Verarbeitungsanforderungen bei der Dünnschichtabscheidung und Waferhandhabung. Unser Produkt zeichnet sich durch eine hervorragende Hitzebeständigkeit und gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit aus und gewährleistet eine gleichmäßige Dicke und Beständigkeit der Epi-Schicht. Mit einer sauberen und glatten Oberfläche sorgt unsere hochreine SiC-Kristallbeschichtung für eine optimale Handhabung makelloser Wafer.
WeiterlesenAnfrage absendenDer SiC-beschichtete Zylindersuszeptor von Semicorex für das epitaxiale LPE-Wachstum ist ein Hochleistungsprodukt, das für eine konstante und zuverlässige Leistung über einen längeren Zeitraum ausgelegt ist. Sein gleichmäßiges thermisches Profil, das laminare Gasströmungsmuster und die Vermeidung von Kontaminationen machen es zur idealen Wahl für das Wachstum hochwertiger Epitaxieschichten auf Waferchips. Seine Anpassbarkeit und Kosteneffizienz machen es zu einem äußerst wettbewerbsfähigen Produkt auf dem Markt.
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