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Produkte
Semicorex ist ein professioneller Hersteller und Zulieferer in China. Unsere Fabrik stellt Fass-Suszeptoren, MoCVD-Suszeptoren, Wafer-Boote usw. her. Extremes Design, hochwertige Rohstoffe, hohe Leistung und wettbewerbsfähige Preise sind das, was jeder Kunde wünscht, und das können wir Ihnen auch bieten. Wir legen Wert auf hohe Qualität, angemessene Preise und perfekten Service.
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Keramik -Verbundheizungen
Semicorex-Keramik-Verbundheizungen liefern ultra-verringerte Heizleistung mit hoher Effizienz für anspruchsvolle Hochtemperaturanwendungen. Wählen Sie Semicorex für branchenführende Materialreinheit, Präzisionstechnik und zuverlässige Anpassung, die durch jahrelange Fachwissen in fortgeschrittenen Keramiktechnologien unterstützt werden.*
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PBN -Heizung
Die Semicorex-PBN-Heizung bietet eine ultra-verarbeitete Hochtemperaturleistung ideal für Halbleiter-, Kristallwachstums- und Vakuumanwendungen. Wählen Sie Semicorex für unübertroffene materielle Reinheit, technische Präzision und zuverlässige Lieferung, die von führenden weltweiten Herstellern vertraut ist.*
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SiC -Keramikboote
Semicorex -Keramikboote bieten die optimale Kombination aus Reinheit, Festigkeit, thermischem Widerstand und dimensionalen Genauigkeit, die für die strengen Anforderungen der modernen Verarbeitung des Halbleiterwafers erforderlich sind. *
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Randringe
Semikorex -Kantenringe werden von den führenden Halbleiter Fabs und OEMs weltweit vertrauen. Semicorex bietet Lösungen, die die Lebensdauer erweitern, Wafer-Gleichmäßigkeit optimieren und erweiterte Prozessknoten unterstützen.*
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SiC Roboter Hände
Semicorex SIC-Roboterhände sind hochpräzisen, ultra-geplante Endeffektoren, die für einen sicheren und zuverlässigen Wafertransfer in der Semiconductor-Herstellung entwickelt wurden.
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Sic Randring
Semicorex CVD SIC-Randring ist eine Hochleistungs-Plasma-Komponente, die zur Verbesserung der Ätzeinheit werden und Waferkanten in der Semiconductor-Herstellung schützt. Wählen Sie Semicorex für unübertroffene Materialreinheit, Präzisionstechnik und nachgewiesene Zuverlässigkeit in fortgeschrittenen Plasma -Prozessumgebungen.*
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