Um die Verarbeitungseffizienz in rauen Umgebungen sicherzustellen, werden die Graphit-Hitzeschilde von Semicorex aus hochwertigen Graphitmaterialien und modernster Fertigungstechnologie hergestellt.
WeiterlesenAnfrage absendenDas industrielle Semicorex-Graphitheizelement ist einer der wichtigsten Teile von Hochtemperatur-Vakuumsinteröfen. Aufgrund ihrer anspruchsvollen Materialeigenschaften ist es für eine Vielzahl thermischer Prozesse unverzichtbar.
WeiterlesenAnfrage absendenDas poröse Keramikfutter (Vakuumfutter) von Semicorex ist ein hochpräzises Werkzeug, das zum sicheren Halten von Wafern während Halbleiterherstellungsprozessen entwickelt wurde. Wenn Sie sich für Semicorex entscheiden, profitieren Sie von einer Lösung, die außergewöhnliche Leistung, Haltbarkeit und Anpassungsoptionen bietet und so eine verbesserte Produktionseffizienz und gleichbleibende Qualitätsstandards gewährleistet.*
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex-Aluminiumoxid-Vakuumspannfutter sind präzisionsgefertigte Komponenten, die Wafer oder Substrate während kritischer Halbleiter- und Präzisionsfertigungsprozesse sicher halten. Dank des Engagements von Semicorex für hochwertige Materialien und modernste Fertigungstechniken bieten unsere Aluminiumoxid-Vakuumspannfutter unübertroffene Zuverlässigkeit, Präzision und Leistung für Ihre anspruchsvollsten Anwendungen.*
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex Vacuum Chuck ist eine Hochleistungskomponente, die für die sichere und präzise Handhabung von Wafern in der Halbleiterfertigung entwickelt wurde. Wählen Sie Semicorex für unsere fortschrittlichen, langlebigen und kontaminationsresistenten Lösungen, die selbst in den anspruchsvollsten Prozessen optimale Leistung gewährleisten.*
WeiterlesenAnfrage absendenDer Semicorex RTP-Ring ist ein SiC-beschichteter Graphitring, der für Hochleistungsanwendungen in RTP-Systemen (Rapid Thermal Processing) entwickelt wurde. Wählen Sie Semicorex aufgrund unserer fortschrittlichen Materialtechnologie, die eine überragende Haltbarkeit, Präzision und Zuverlässigkeit bei der Halbleiterfertigung gewährleistet.*
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