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CVD-Prozess für die Epitaxie von SiC-Wafern

Der CVD-Prozess für die Epitaxie von SiC-Wafern beinhaltet die Abscheidung von SiC-Filmen auf einem SiC-Substrat mithilfe einer Gasphasenreaktion. Die SiC-Vorläufergase, typischerweise Methyltrichlorsilan (MTS) und Ethylen (C2H4), werden in eine Reaktionskammer eingeleitet, in der das SiC-Substrat u......

Japan hat kürzlich den Export von 23 Arten von Halbleiterfertigungsanlagen eingeschränkt

Japan hat kürzlich den Export von 23 Arten von Halbleiterfertigungsanlagen eingeschränkt. Die Ankündigung hat in der gesamten Branche für Aufsehen gesorgt, da erwartet wird, dass der Schritt erhebliche Auswirkungen auf die globalen Lieferketten für die Halbleiterfertigung haben wird.

Der Chip-Mangel bleibt ein Problem

Während aufgrund einer schleppenden Weltkonjunktur derzeit ein Überangebot an Speicherhalbleitern besteht, bleiben analoge Chips für Automobil- und Industrieanwendungen Mangelware. Die Lieferzeiten für diese analogen Chips können bis zu 40 Wochen betragen, verglichen mit rund 20 Wochen für Speicherb......

Was ist der Vorteil von Siliziumkarbid?

Was ist ein MOCVD-System?

Wofür werden Epitaxiewafer verwendet?

Epitaktische Wafer werden seit Jahrzehnten in der Elektronikindustrie verwendet, aber ihre Bedeutung hat mit fortschreitender Technologie nur zugenommen. In diesem Artikel werden wir untersuchen, was Epitaxiewafer sind und warum sie ein so wesentlicher Bestandteil moderner Elektronik sind.