LPE-Teil
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Semicorex LPE Part ist eine SiC-beschichtete Komponente, die speziell für den SiC-Epitaxieprozess entwickelt wurde und außergewöhnliche thermische Stabilität und chemische Beständigkeit bietet, um einen effizienten Betrieb in Hochtemperatur- und rauen Umgebungen zu gewährleisten. Wenn Sie sich für Semicorex-Produkte entscheiden, profitieren Sie von hochpräzisen, langlebigen kundenspezifischen Lösungen, die den SiC-Epitaxie-Wachstumsprozess optimieren und die Produktionseffizienz steigern.*

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Produktbeschreibung

Semicorex LPE-Teile sind leistungsstarke SiC-beschichtete Komponenten, die speziell für den Einsatz im SiC-Epitaxieprozess entwickelt wurden. Diese Komponenten sind so konstruiert, dass sie den anspruchsvollen Bedingungen des SiC-Kristallwachstums standhalten und eine hervorragende thermische Stabilität, chemische Beständigkeit und mechanische Festigkeit bieten. Wenn Sie sich für die LPE-Teile von Semicorex entscheiden, können Sie sich auf außergewöhnliche Haltbarkeit, Präzision und eine maßgeschneiderte Lösung für Ihre SiC-Epitaxie-Prozessanforderungen verlassen.


Semicorex LPE-Teile werden mit fortschrittlichen Materialien und präzisen Fertigungstechniken hergestellt, um Konsistenz und Zuverlässigkeit in jeder Einheit zu gewährleisten. Die physikalischen und chemischen Eigenschaften der Beschichtung stellen strenge Anforderungen an hohe Temperaturbeständigkeit und Korrosionsbeständigkeit, die sich direkt auf die Ausbeute und Lebensdauer des Produkts auswirken. SiC-Material hat eine hohe Festigkeit, eine hohe Härte, einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten und eine gute Wärmeleitfähigkeit. Es ist ein wichtiges Hochtemperatur-Strukturmaterial und Hochtemperatur-Halbleitermaterial. Es wird auf Graphituntergründe aufgetragen. Seine Vorteile sind:

1) SiC ist korrosionsbeständig und kann die Graphitbasis vollständig umhüllen und weist eine gute Dichte auf, um Schäden durch korrosive Gase zu vermeiden. 2) SiC verfügt über eine hohe Wärmeleitfähigkeit und eine hohe Bindungsfestigkeit mit der Graphitbasis, wodurch sichergestellt wird, dass die Beschichtung nach mehreren Hochtemperatur- und Niedertemperaturzyklen nicht leicht abfällt. 3) SiC weist eine gute chemische Stabilität auf, um ein Versagen der Beschichtung in einer Hochtemperatur- und korrosiven Atmosphäre zu vermeiden. Darüber hinaus erfordern Epitaxieöfen aus unterschiedlichen Materialien Graphitschalen mit unterschiedlichen Leistungsindikatoren. Die Anpassung des thermischen Ausdehnungskoeffizienten von Graphitmaterialien erfordert eine Anpassung an die Wachstumstemperatur des Epitaxieofens. Beispielsweise ist die Temperatur bei der Siliziumkarbid-Epitaxie hoch und es ist eine Schale mit einem hohen Wärmeausdehnungskoeffizienten erforderlich. Der thermische Ausdehnungskoeffizient von SiC kommt dem von Graphit sehr nahe und eignet sich daher als bevorzugtes Material für die Oberflächenbeschichtung der Graphitbasis.


Anwendungen im SiC-Epitaxieprozess


Der SiC-Epitaxieprozess ist ein entscheidender Schritt bei der Herstellung hochwertiger SiC-Wafer für Halbleiterbauelemente, einschließlich Leistungselektronik und Optoelektronik. LPE-Teile, insbesondere solche mit SiC-Beschichtungen, spielen eine wesentliche Rolle bei der präzisen Steuerung der Temperatur und der chemischen Reaktionen im Reaktor. Diese Komponenten werden strategisch im Reaktor platziert, um ein optimales Waferwachstum zu ermöglichen und gleichzeitig die Reinheit und Gleichmäßigkeit der SiC-Kristalle aufrechtzuerhalten.


Bei Semicorex wissen wir, dass jeder SiC-Epitaxieprozess einzigartige Anforderungen hat. Aus diesem Grund können unsere LPE-Teile vollständig an die spezifischen Anforderungen Ihres Betriebs angepasst werden. Ganz gleich, ob es um Größe, Form oder Beschichtungsdicke geht: Unser Ingenieurteam arbeitet eng mit Kunden zusammen, um Komponenten zu liefern, die ihre Produktionsprozesse optimieren.


Die hochwertige SiC-Beschichtung unserer Teile sorgt zudem für eine überragende Haltbarkeit. Im Gegensatz zu herkömmlichen Materialien bietet SiC eine längere Lebensdauer unter rauen Betriebsbedingungen und reduziert die Wartungshäufigkeit und Ausfallzeiten. Diese Langlebigkeit führt zu niedrigeren Betriebskosten und erhöhter Effizienz für Halbleiterhersteller.


Semicorex LPE-Teile werden mit Präzision entworfen und konstruiert, um den strengen Anforderungen des SiC-Epitaxieprozesses gerecht zu werden. Unsere Komponenten werden mit modernster Technologie hergestellt, um eine unübertroffene Leistung und Langlebigkeit zu gewährleisten. Wenn Sie sich für Semicorex entscheiden, entscheiden Sie sich für einen Partner, der die Komplexität der Halbleiterfertigung versteht und sich für die Lieferung zuverlässiger, qualitativ hochwertiger Produkte einsetzt, die Ihre Produktionskapazitäten verbessern.


Semicorex LPE-Teile mit ihrenSiC-Beschichtungsind die ideale Wahl, um die Leistung und Langlebigkeit von SiC-Epitaxiereaktoren zu verbessern. Diese Komponenten bieten eine hervorragende thermische Stabilität, chemische Beständigkeit und mechanische Festigkeit und sorgen dafür, dass Ihr SiC-Kristallwachstumsprozess reibungslos und effizient verläuft. Mit den verfügbaren Anpassungsoptionen bietet Semicorex eine maßgeschneiderte Lösung, die Ihren spezifischen Prozessanforderungen entspricht, und macht uns zum vertrauenswürdigen Partner für Halbleiterhersteller weltweit.


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