Sie können sicher sein, dass Sie ICP Etching Carrier in unserer Fabrik kaufen. Wir bieten Ihnen den besten Kundendienst und eine pünktliche Lieferung. Der Semicorex-Wafer-Suszeptor besteht aus mit Siliziumkarbid beschichtetem Graphit im chemischen Gasphasenabscheidungsverfahren (CVD). Dieses Material verfügt über einzigartige Eigenschaften, darunter hohe Temperatur- und Chemikalienbeständigkeit, ausgezeichnete Verschleißfestigkeit, hohe Wärmeleitfähigkeit sowie hohe Festigkeit und Steifigkeit. Diese Eigenschaften machen es zu einem attraktiven Material für verschiedene Hochtemperaturanwendungen, einschließlich Ätzsystemen mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP).
Wir bieten maßgeschneiderten Service, helfen Ihnen bei der Innovation mit Komponenten, die länger halten, die Zykluszeiten verkürzen und die Ausbeute verbessern.
Der SiC-beschichtete Träger von Semicorex für das ICP-Plasmaätzsystem ist eine zuverlässige und kostengünstige Lösung für Hochtemperatur-Wafer-Handhabungsprozesse wie Epitaxie und MOCVD. Unsere Träger verfügen über eine feine SiC-Kristallbeschichtung, die eine hervorragende Hitzebeständigkeit, gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit und dauerhafte chemische Beständigkeit bietet.
WeiterlesenAnfrage absendenDer mit Siliziumkarbid beschichtete Suszeptor von Semicorex für induktiv gekoppeltes Plasma (ICP) wurde speziell für Hochtemperatur-Wafer-Handhabungsprozesse wie Epitaxie und MOCVD entwickelt. Mit einer stabilen Hochtemperatur-Oxidationsbeständigkeit von bis zu 1600 °C sorgen unsere Träger für gleichmäßige thermische Profile und laminare Gasströmungsmuster und verhindern die Diffusion von Verunreinigungen oder Verunreinigungen.
WeiterlesenAnfrage absendenDer ICP-Ätzwaferhalter von Semicorex ist die perfekte Lösung für Hochtemperatur-Waferhandhabungsprozesse wie Epitaxie und MOCVD. Mit einer stabilen Hochtemperatur-Oxidationsbeständigkeit von bis zu 1600 °C sorgen unsere Träger für gleichmäßige thermische Profile und laminare Gasströmungsmuster und verhindern die Diffusion von Verunreinigungen oder Verunreinigungen.
WeiterlesenAnfrage absendenDie ICP-Ätzträgerplatte von Semicorex ist die perfekte Lösung für anspruchsvolle Waferhandhabung und Dünnschichtabscheidungsprozesse. Unser Produkt bietet hervorragende Hitze- und Korrosionsbeständigkeit, gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit und laminare Gasströmungsmuster. Mit einer sauberen und glatten Oberfläche eignet sich unser Träger perfekt für die Handhabung makelloser Waffeln.
WeiterlesenAnfrage absendenDer Waferhalter von Semicorex für den ICP-Ätzprozess ist die perfekte Wahl für anspruchsvolle Waferhandhabung und Dünnschichtabscheidungsprozesse. Unser Produkt zeichnet sich durch hervorragende Hitze- und Korrosionsbeständigkeit, gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit und optimale laminare Gasströmungsmuster für konsistente und zuverlässige Ergebnisse aus.
WeiterlesenAnfrage absendenDer mit ICP-Siliziumkohlenstoff beschichtete Graphit von Semicorex ist die ideale Wahl für anspruchsvolle Wafer-Handhabung und Dünnschichtabscheidungsprozesse. Unser Produkt zeichnet sich durch hervorragende Hitze- und Korrosionsbeständigkeit, gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit und optimale laminare Gasströmungsmuster aus.
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