GaN-auf-Si-Epi-Wafer-Chuck

Semicorex GaN-on-Si Epi Wafer Chuck ist ein integraler Bestandteil der Halbleiterfertigung und ermöglicht eine stabile und zuverlässige Unterstützung bei kritischen Prozessen wie Abscheidung, Ätzen und Lithographie. GaN-on-Si Epi Wafer Chuck sorgt für eine effiziente Wärmeableitung und sorgt für eine gleichmäßige Temperaturverteilung über den Wafer, um thermische Gradienten zu verhindern, die zu Defekten führen könnten. GaN-on-Si Epi Wafer Chuck ist in verschiedenen Größen und Konfigurationen erhältlich, um unterschiedlichen Waferabmessungen und Verarbeitungsanforderungen gerecht zu werden, und bietet Flexibilität für unterschiedliche Halbleiterfertigungsanforderungen.

Anwendungen:

Epitaktisches Wachstum: GaN-on-Si Epi Wafer Chuck bietet eine stabile Plattform für das Wachstum hochwertiger GaN-Schichten auf Siliziumsubstraten. GaN-on-Si Epi Wafer Chuck ist für leistungsstarke elektronische und optoelektronische Geräte unerlässlich.

Ätzen und Abscheiden: Erleichtert die gleichmäßige Materialentfernung oder -abscheidung, was für die Erzielung der gewünschten strukturellen und elektrischen Eigenschaften der Geräte von entscheidender Bedeutung ist.

The GaN-on-Si Epi Wafer Chuck is an indispensable tool for semiconductor manufacturers aiming to produce cutting-edge GaN-based devices, offering unmatched performance in precision, stability, and durability.