Al2O3-Vakuumfutter

Anwendungen in der Halbleiterfertigung

Das Semicorex Al2O3-Vakuumspannfutter ist ein vielseitiges Werkzeug, das in mehreren Phasen der Halbleiterproduktion eingesetzt wird:

Ausdünnung: Während des Wafer-Ausdünnungsprozesses sorgt das Al2O3-Vakuum-Chuck für eine stabile und gleichmäßige Unterstützung und sorgt so für eine hochpräzise Substratreduzierung. Dies ist entscheidend für die Verbesserung der Chip-Wärmeableitung und die Verbesserung der Geräteleistung.

Würfeln: In der Würfelschneidephase, in der Wafer in einzelne Chips geschnitten werden, bietet das Al2O3-Vakuumfutter eine sichere und stabile Adsorption, wodurch das Risiko einer Beschädigung minimiert und saubere Schnitte gewährleistet werden.

Reinigung: Die glatte und gleichmäßige Adsorptionsoberfläche des Al2O3-Vakuumspannfutters eignet sich für Wafer-Reinigungsprozesse und stellt sicher, dass Verunreinigungen effektiv entfernt werden, ohne die Wafer zu beschädigen.

Transport: Während der Handhabung und des Transports von Wafern bietet der Al2O3-Vakuumspanner zuverlässigen und sicheren Halt und reduziert so das Risiko von Beschädigungen und Verunreinigungen.

SemicorexVakuumChuck Flow

Vorteile des Semicorex Al2O3-Vakuumspannfutters

1. Einheitliche mikroporöse Keramiktechnologie

Das Al2O3-Vakuumfutter ist mit mikroporöser Keramiktechnologie konstruiert, bei der Nanopulver gleichmäßiger Größe verwendet werden. Diese Technologie sorgt dafür, dass die Poren gleichmäßig verteilt und miteinander verbunden sind, was zu einer hohen Porosität und einer gleichmäßig dichten Struktur führt. Diese Gleichmäßigkeit verbessert die Leistung des Vakuumspannfutters und sorgt für eine gleichmäßige und zuverlässige Waferunterstützung.

2. Außergewöhnliche Materialeigenschaften

Das im Al2O3-Vakuumspannfutter verwendete hochreine 99,99 %ige Aluminiumoxid (Al2O3) bietet eine Reihe außergewöhnlicher Eigenschaften:

Thermische Eigenschaften: Mit hoher Hitzebeständigkeit und ausgezeichneter Wärmeleitfähigkeit hält das Al2O3-Vakuumfutter den hohen Temperaturen stand, die üblicherweise in der Halbleiterfertigung auftreten.

Mechanische Eigenschaften: Die hohe Festigkeit und Härte von Aluminiumoxid sorgen dafür, dass das Al2O3-Vakuumspannfutter langlebig und verschleißfest ist und eine lang anhaltende Leistung bietet.

Weitere Eigenschaften: Aluminiumoxid bietet außerdem eine hohe elektrische Isolierung und Korrosionsbeständigkeit, wodurch sich das Al2O3-Vakuumspannfutter für eine Vielzahl von Fertigungsumgebungen eignet.

3. Überlegene Ebenheit und Parallelität

Einer der Hauptvorteile des Al2O3-Vakuumspannfutters ist seine hohe Ebenheit und Parallelität. Diese Eigenschaften sind entscheidend für die Gewährleistung einer präzisen und stabilen Waferhandhabung, die Minimierung des Beschädigungsrisikos und die Sicherstellung konsistenter Verarbeitungsergebnisse. Darüber hinaus sorgen die gute Luftdurchlässigkeit und die gleichmäßige Adsorptionskraft des Al2O3-Vakuumspannfutters für einen reibungslosen und zuverlässigen Betrieb.

4. Anpassungsoptionen

Bei Semicorex wissen wir, dass jeder Halbleiterherstellungsprozess einzigartige Anforderungen hat. Aus diesem Grund bieten wir maßgeschneiderte Vakuumspannfutter an, die auf Ihre spezifischen Bedürfnisse zugeschnitten sind. Abhängig von der erforderlichen Ebenheit und den Produktionskosten empfehlen wir unterschiedliche Grundmaterialien, um sicherzustellen, dass Gewicht und Leistung des Vakuumspannfutters für Ihre Anwendung optimiert sind. Zu diesen Materialien gehören Edelstahl SUS430, Aluminiumlegierung 6061, dichte Aluminiumoxidkeramik (Elfenbeinfarbe), Granit und dichte Siliziumkarbidkeramik.

Al2O3-Vakuumspannfutter-KMG-Messung