Aluminiumoxid-Keramik-Wafer-Spannfutter

Die Multiporosität der Semicorex Aluminiumoxid-Keramik-Wafer-Chucks bietet eine hohe spezifische Oberfläche, was bedeutet, dass mehr Oberfläche für die Interaktion mit dem Zielobjekt zur Verfügung steht. Eine hohe Porosität trägt zu einer verbesserten Adsorptionsfähigkeit bei und ermöglicht einen sicheren und gleichmäßigen Waferhalt während des Schleifens. Diese Gleichmäßigkeit ist für die Erzielung qualitativ hochwertiger, fehlerfreier Waferoberflächen unerlässlich, was eine Grundvoraussetzung in der Halbleiterfertigung ist.

Aluminiumoxid-Keramik-Wafer-Chucks weisen eine gute Wärmeleitfähigkeit auf, die für die effektive Wärmeableitung während des Schleifprozesses unerlässlich ist. Dieses Wärmemanagement verhindert Schäden sowohl am Chuck als auch am Werkstück und sorgt so für eine hohe Präzision bei der Waferfertigung. Darüber hinaus eignen sich Aluminiumoxid-Keramik-Wafer-Chucks aufgrund ihrer Fähigkeit, hohen Temperaturen ohne Verformung oder Verlust der strukturellen Integrität standzuhalten, für Anwendungen, die unter extremen Bedingungen betrieben werden, wie z. B. Halbleiterverarbeitungsanlagen.

Die inerte Beschaffenheit von Aluminiumoxid-Keramik-Wafer-Chucks sorgt für eine hohe Korrosionsbeständigkeit gegenüber einer Vielzahl von Chemikalien. Diese Beständigkeit gegenüber korrosiven Substanzen ist nicht nur entscheidend für die Aufrechterhaltung der Integrität des Chucks, sondern auch für die Vermeidung einer Kontamination der Wafer während der Verarbeitung. Die chemische Stabilität stellt sicher, dass die Aluminiumoxid-Keramik-Wafer-Chucks nicht mit Prozesschemikalien oder dem verarbeiteten Material reagieren, was bei der Halbleiterfertigung und anderen sensiblen Anwendungen von größter Bedeutung ist.