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Tantal-Karbid-Spannfutter

Tantal-Karbid-Spannfutter

Das Tantal-Karbid-Spannfutter von Semicorex ist eine fortschrittliche Komponente, die in Halbleiterfertigungsanlagen verwendet wird und für ihre außergewöhnlichen thermischen und mechanischen Eigenschaften bekannt ist. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden*.

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Produktbeschreibung

Das Tantal-Hartmetall-Spannfutter von Semicorex zeichnet sich durch eine hervorragende thermische Stabilität aus und hält Temperaturen von bis zu 3880 °C stand. Diese Eigenschaft stellt sicher, dass das Tantalkarbid-Spannfutter seine strukturelle Integrität und Leistung auch unter extremen thermischen Bedingungen beibehält, was für Prozesse wie chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) unerlässlich ist.  Mit einem Härtewert, der mit dem von Diamant vergleichbar ist, weist das Tantalkarbid-Spannfutter eine außergewöhnliche Verschleißfestigkeit auf. Diese Eigenschaft ist in der Halbleiterfertigung von entscheidender Bedeutung, wo Präzision und Haltbarkeit von größter Bedeutung sind. Die hohe Härte minimiert den Verschleiß, verlängert die Lebensdauer des Spannfutters und reduziert die Wartungskosten. Tantalcarbid ist äußerst beständig gegen chemische Korrosion, insbesondere in Umgebungen mit aggressiven Säuren und Laugen. Diese Beständigkeit stellt sicher, dass das Tantalkarbid-Spannfutter von korrosiven Substanzen, die in verschiedenen Halbleiterprozessen verwendet werden, unbeeinträchtigt bleibt und seine Leistung und Zuverlässigkeit über einen langen Zeitraum beibehält.

Tantal-Karbid-Spannfutter stellt einen entscheidenden Fortschritt in der Halbleiterfertigungstechnologie dar. Seine beispiellose thermische Stabilität, Härte, Korrosionsbeständigkeit und elektrische Leitfähigkeit machen es zu einem unverzichtbaren Bestandteil für eine Vielzahl von Halbleiterfertigungsprozessen. Durch den Einsatz von TaC Chuck können Hersteller eine höhere Präzision, längere Haltbarkeit und eine verbesserte Gesamteffizienz in ihren Produktionslinien erreichen und so letztendlich zum Fortschritt der Halbleiterindustrie beitragen.


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