Semicorex ist Ihr Partner für Verbesserungen in der Halbleiterverarbeitung. Unsere Siliziumkarbidbeschichtungen sind dicht, hochtemperatur- und chemikalienbeständig und werden häufig im gesamten Zyklus der Halbleiterherstellung eingesetzt, einschließlich der Halbleiterwafer- und Waferverarbeitung sowie der Halbleiterfertigung.
Hochreine SiC-Keramikkomponenten sind für Prozesse im Halbleiter von entscheidender Bedeutung. Unser Angebot reicht von Verbrauchsteilen für Wafer-Verarbeitungsgeräte wie Siliziumkarbid-Waferboote, Cantilever-Paddel, Rohre usw. für Epitaxie oder MOCVD.
Vorteile für Halbleiterprozesse
Die Dünnschichtabscheidungsphasen wie Epitaxie oder MOCVD oder die Wafer-Handhabungsprozesse wie Ätzen oder Ionenimplantation müssen hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung standhalten. Semicorex liefert eine Konstruktion aus hochreinem Siliziumkarbid (SiC), die eine hervorragende Hitzebeständigkeit und dauerhafte chemische Beständigkeit sowie eine gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit für eine gleichmäßige Dicke und Beständigkeit der Epi-Schicht bietet.
Kammerdeckel →
Kammerdeckel, die beim Kristallwachstum und bei der Wafer-Handhabung verwendet werden, müssen hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung standhalten.
Auslegerpaddel →
Cantilever Paddle ist eine entscheidende Komponente, die in Halbleiterherstellungsprozessen verwendet wird, insbesondere in Diffusions- oder LPCVD-Öfen bei Prozessen wie Diffusion und RTP.
Prozessrohr →
Das Prozessrohr ist eine entscheidende Komponente, die speziell für verschiedene Halbleiterverarbeitungsanwendungen wie RTP und Diffusion entwickelt wurde.
Wafer-Boote →
Wafer Boat wird in der Halbleiterverarbeitung eingesetzt und wurde sorgfältig entwickelt, um sicherzustellen, dass die empfindlichen Wafer während der kritischen Produktionsphasen sicher aufbewahrt werden.
Einlassringe →
SiC-beschichteter Gaseinlassring durch MOCVD-Ausrüstung. Das Compound-Wachstum weist eine hohe Hitze- und Korrosionsbeständigkeit auf, was eine große Stabilität in extremen Umgebungen bietet.
Fokusring →
Semicorex liefert einen mit Siliziumkarbid beschichteten Fokusring, der wirklich stabil für RTA, RTP oder aggressive chemische Reinigung ist.
Waffelfutter →
Die ultraflachen Keramik-Vakuum-Wafer-Chucks von Semicorex sind mit hochreinem SiC beschichtet und werden im Wafer-Handhabungsprozess verwendet.
Semicorex bietet auch Keramikprodukte aus Aluminiumoxid (Al2O3), Siliziumnitrid (Si3N4), Aluminiumnitrid (AlN), Zirkonoxid (ZrO2), Verbundkeramik usw. an.
Das AIN-Substrat von Semicorex zeichnet sich durch hervorragendes Wärmemanagement und elektrische Isolierung aus und bietet eine robuste Lösung aus hochreiner AlN-Keramik. Dieses weiße Keramikmaterial wird für seine umfassenden Eigenschaften gelobt.**
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex präsentiert stolz das Al2O3-Substrat, ein vielseitiges und leistungsstarkes Material aus hochreinem Aluminiumoxid (Aluminiumoxid). Dieses fortschrittliche Keramiksubstrat wird für seine außergewöhnlichen Eigenschaften gelobt und ist damit ein Eckpfeiler in verschiedenen High-Tech-Industrien, darunter Elektronik, Optoelektronik und Festoxid-Brennstoffzellen.**
WeiterlesenAnfrage absendenDie Siliziumnitrid-Führungsrolle von Semicorex stellt einen Höhepunkt in der fortschrittlichen Keramiktechnik dar. Dieses Produkt bietet eine bemerkenswerte Mischung aus mechanischen, thermischen und elektrischen Eigenschaften.**
WeiterlesenAnfrage absendenDas Al2O3-Vakuumspannfutter von Semicorex wurde entwickelt, um den strengen Anforderungen verschiedener Halbleiterproduktionsprozesse gerecht zu werden, darunter Ausdünnen, Würfeln, Reinigen und Transportieren von Wafern. **
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex Aluminiumoxid-Keramik-Vakuumspannfutter wird in den Wafer-Ausdünnungs- und Schleifprozessen der Halbleiterfertigung eingesetzt und dient als unverzichtbares Werkzeug für die Erzielung einer hochpräzisen und zuverlässigen Halbleiterproduktion.**
WeiterlesenAnfrage absendenDas SiC-Keramikdichtungsteil von Semicorex ist ein Beweis für modernste Materialwissenschaft und Ingenieurskunst und wurde entwickelt, um die hohen Anforderungen leistungsstarker mechanischer Dichtungsanwendungen in einer Vielzahl von Branchen zu erfüllen.**
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