SiC-Keramikpaddel

Das Semicorex SiC-Keramikpaddel ist ein fortschrittliches Teil, das für Hochtemperatur-Halbleiterofenanwendungen wie Oxidation und Diffusion entwickelt wurde. Das Paddel dient als freitragender Träger zum Halten und Bewegen der Wafer bei hohen Temperaturen. Das Semicorex SiC-Keramikpaddel liefert hochreine, hochfeste Keramikkomponenten für Hochtemperaturprozesse, die im gesamten Produktionsprozess hohe Anforderungen an Zuverlässigkeit, Stabilität und Leistung stellen.

Ein weiteres wichtiges Merkmal von SiC-Keramikpaddeln ist ihre hervorragende Leistung bei hohen Temperaturen. Aufgrund des Schmelzpunkts von SiC von über 2700 °C behalten die Paddel ihre Festigkeit und mechanische Stabilität, wenn sie hohen Temperaturen ausgesetzt werdenSiliziumkarbid (SiC), speziell formuliert, um den rauen thermischen und chemischen Umgebungen eines Halbleiterfertigungsprozesses standzuhalten. Bei der Behandlung von Wafern durch Oxidation und Diffusion ist der Wafer Temperaturen über 1000 Grad C sowie reaktiven Gasen wie Sauerstoff, Dampf oder Dotierstoffatmosphären ausgesetzt. Bei diesen Temperaturen hängt die strukturelle Integrität von der Reinheit des Materials ab.

Ein weiteres wichtiges Merkmal von SiC-Keramikpaddeln ist ihre hervorragende Leistung bei hohen Temperaturen. Aufgrund des Schmelzpunkts von SiC von über 2700 °C behalten die Paddel ihre Festigkeit und mechanische Stabilität, wenn sie hohen Temperaturen ausgesetzt werden

Temperaturen im Laufe der Zeit. Die thermische Eigenschaft begrenzt Verformungen und Risse des Materials bei wiederholten Erwärmungs- und Abkühlungszyklen und sorgt gleichzeitig für eine lange Lebensdauer in Produktionsumgebungen.

Die Verarbeitung von Halbleitern erfordert eine hochreine Umgebung, da selbst Spuren von Verunreinigungen die Ausbeute und das Verhalten von Geräten beeinträchtigen können. Das in den Paddeln verwendete SiC-Material verfügt über eine chemisch aufgedampfte (CVD) SiC-Beschichtung, die eine außergewöhnlich hohe Materialreinheit fördert und gleichzeitig metallische Verunreinigungen minimiert. Die SiC-Keramikpaddel bleiben über die gesamte Lebensdauer sauber und stabil. Als freitragende Stützen müssen die Paddel den Waferträgern oder -schiffchen beim Einsetzen und Herausnehmen aus dem Ofen einen sicheren Halt bieten. WegenSiCAufgrund ihrer inhärenten Festigkeit und Steifigkeit verfügen sie über gute Trageigenschaften bei minimaler Durchbiegung, was für die ordnungsgemäße Handhabung und Ausrichtung der Wafer unerlässlich ist. In Oxidations- und Diffusionsöfen können korrosive Atmosphären herkömmliche Materialien im Laufe der Zeit angreifen und zersetzen, aber SiC hat die Fähigkeit, seine chemische Stabilität aufrechtzuerhalten und so die Nutzungsdauer des Paddels zu verlängern. Dies führt zu drastisch reduzierten Wartungs- und Austauschkosten, da die Paddel nicht annähernd so oft ausgetauscht oder repariert werden müssen.

Zusätzlich zur Leistung gibt es Flexibilität bei der individuellen Anpassung der Paddel an bestimmte Geräte und Prozesse. Abmessungen, Toleranzen und Oberflächenbeschaffenheit können flexibel gestaltet werden, um eine Anpassung zwischen Ofendesigns und anderen Wafer-Handhabungssystemen sicherzustellen. Die Fähigkeit, durch Präzisionsbearbeitung der Keramik ein hohes Maß an Maßgenauigkeit zu erreichen, ermöglicht auch die Herstellung von Paddeln mit komplexen Geometrien. Dieser gesamte Funktionsumfang soll einen reibungslosen Betrieb und eine einfache Integration in bestehende Produktionslinien ermöglichen.

SiC-KeramikPaddel sind mit ihrer Kombination aus hoher Reinheit, thermischer Stabilität, mechanischer Festigkeit und chemischer Beständigkeit wesentliche Materialien bei Halbleiteroxidations- und -diffusionsprozessen. Durch die Bereitstellung einer stabilen, sauberen Plattform für den Wafertransfer tragen sie direkt zu einer verbesserten Ausbeute, Prozesskonsistenz und Gesamteffizienz der Fertigung bei.