Der Semicorex RTP-Träger ist im CVD-Verfahren (Chemical Vapour Deposition) mit Siliziumkarbid beschichtet, das für RTA, RTP oder aggressive chemische Reinigung sehr stabil ist. Das Herzstück des Halbleiterprozesses, die Epitaxie-Suszeptoren, werden zunächst der Abscheidungsumgebung ausgesetzt, sodass sie eine hohe Hitze- und Korrosionsbeständigkeit aufweisen. Der mit SiC beschichtete Träger verfügt außerdem über eine hohe Wärmeleitfähigkeit und hervorragende Wärmeverteilungseigenschaften.
● Hochreiner SiC-beschichteter Graphit
● Hervorragende Hitzebeständigkeit und chemische Beständigkeit
● Hohe thermische Gleichmäßigkeit
● Hervorragende Verschleißfestigkeit
Der Semicorex RTP-Träger für MOCVD-Epitaxiewachstum ist ideal für Halbleiter-Wafer-Verarbeitungsanwendungen, einschließlich Epitaxiewachstum und Wafer-Handling-Verarbeitung. Kohlenstoffgraphitsuszeptoren und Quarztiegel werden durch MOCVD auf der Oberfläche von Graphit, Keramik usw. verarbeitet. Unsere Produkte haben einen guten Preisvorteil und decken viele europäische und amerikanische Märkte ab. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
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