Die SiC-Platte von Semicorex für den ICP-Ätzprozess ist die perfekte Lösung für hohe Temperaturen und raue chemische Verarbeitungsanforderungen bei der Dünnschichtabscheidung und Waferhandhabung. Unser Produkt zeichnet sich durch eine hervorragende Hitzebeständigkeit und gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit aus und gewährleistet eine gleichmäßige Dicke und Beständigkeit der Epi-Schicht. Mit einer sauberen und glatten Oberfläche sorgt unsere hochreine SiC-Kristallbeschichtung für eine optimale Handhabung makelloser Wafer.
WeiterlesenAnfrage absendenDie Silizium-Ätzplatte von Semicorex für PSS-Ätzanwendungen ist ein hochwertiger, hochreiner Graphitträger, der speziell für epitaktische Wachstums- und Wafer-Handhabungsprozesse entwickelt wurde. Unser Träger hält rauen Umgebungen, hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung stand. Die Silizium-Ätzplatte für PSS-Ätzanwendungen verfügt über hervorragende Wärmeverteilungseigenschaften, eine hohe Wärmeleitfähigkeit und ist kostengünstig. Unsere Produkte sind in vielen europäischen und amerikanischen Märkten weit verbreitet und wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenDer SiC-beschichtete Suszeptorzylinder für die Epitaxie-Reaktorkammer von Semicorex ist eine äußerst zuverlässige Lösung für Halbleiterfertigungsprozesse und zeichnet sich durch hervorragende Wärmeverteilungs- und Wärmeleitfähigkeitseigenschaften aus. Es ist außerdem äußerst beständig gegen Korrosion, Oxidation und hohe Temperaturen.
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