Die SiC-beschichtete ICP-Komponente von Semicorex wurde speziell für Hochtemperatur-Wafer-Handhabungsprozesse wie Epitaxie und MOCVD entwickelt. Mit einer feinen SiC-Kristallbeschichtung bieten unsere Träger eine hervorragende Hitzebeständigkeit, gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit und dauerhafte chemische Beständigkeit.
WeiterlesenAnfrage absendenWenn es um Wafer-Handhabungsprozesse wie Epitaxie und MOCVD geht, ist die Hochtemperatur-SiC-Beschichtung für Plasmaätzkammern von Semicorex die erste Wahl. Unsere Träger bieten dank unserer feinen SiC-Kristallbeschichtung eine hervorragende Hitzebeständigkeit, gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit und dauerhafte chemische Beständigkeit.
WeiterlesenAnfrage absendenDer PSS Handling Carrier für den Wafertransfer von Semicorex wurde für die anspruchsvollsten Epitaxie-Geräteanwendungen entwickelt. Unser hochreiner Graphitträger hält rauen Umgebungen, hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung stand. Der mit SiC beschichtete Träger verfügt über hervorragende Wärmeverteilungseigenschaften, eine hohe Wärmeleitfähigkeit und ist kostengünstig. Unsere Produkte sind in vielen europäischen und amerikanischen Märkten weit verbreitet und wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenDer Semicorex SiC Coated Epitaxial Reactor Barrel ist ein hochwertiges Graphitprodukt, das mit hochreinem SiC beschichtet ist. Seine ausgezeichnete Dichte und Wärmeleitfähigkeit machen es zur idealen Wahl für den Einsatz in LPE-Prozessen und bieten eine außergewöhnliche Wärmeverteilung und Schutz in korrosiven und Hochtemperaturumgebungen.
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