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SiC-Keramik-Vakuumspannfutter

SiC-Keramik-Vakuumspannfutter

Semicorex SiC-Keramik-Vakuumspannfutter sind Präzisions-Vakuumadsorptionsgeräte aus Siliziumkarbidkeramik, mit denen Halbleiterwafer während der Verarbeitung und Inspektion präzise und stabil in bestimmten Positionen positioniert werden können. Der Einsatz von Semicorex SiC-Keramik-Vakuumspannfuttern kann dazu beitragen, die Ausbeute bei der Halbleiterfertigung zu verbessern, die Leistung von Halbleiterbauelementen zu verbessern und die Gesamtherstellungskosten zu senken.

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Graphitheizungen

Graphitheizungen

Semicorex-Graphitheizelemente sind präzisionsgefertigte Widerstandsheizelemente, die für die ultrahohen Reinheits- und Hochtemperaturanforderungen von Halbleiteröfen entwickelt wurden und speziell für MOCVD-, CVD- und SiC-Kristallwachstumsprozesse optimiert sind. Durch die Partnerschaft mit Semicorex erhalten Sie maßgeschneiderte Heizlösungen, die hochwertigen isostatischen Graphit mit fortschrittlichen Beschichtungstechnologien kombinieren und so eine branchenführende thermische Gleichmäßigkeit, eine kontaminationsfreie Leistung und deutlich niedrigere Gesamtbetriebskosten (TCO) gewährleisten.*

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Poröse Tantalkarbidringe

Poröse Tantalkarbidringe

Poröse Tantalkarbidringe von Semicorex sind leistungsstarke feuerfeste Komponenten, die speziell für den PVT-Prozess (Physical Vapour Transport) des Kristallwachstums von Siliziumkarbid (SiC) entwickelt wurden und über eine monolithische Sinterstruktur verfügen, die außergewöhnliche thermische Stabilität und kontrollierte Gasdurchlässigkeit bietet.*

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RTA-SiC-Waferträger

RTA-SiC-Waferträger

Semicorex RTA SiC-Waferträger sind die unverzichtbaren Wafer-Transportwerkzeuge, die speziell für den schnellen thermischen Ausheilprozess in der Halbleiterfertigung entwickelt wurden. Semicorex RTA SiC-Waferträger sind die optimalen Lösungen für schnelle thermische Ausheilprozesse, die dazu beitragen können, die Ausbeute bei der Halbleiterherstellung zu verbessern und die Leistung von Halbleiterbauelementen zu verbessern.

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TaC-beschichtete Graphitwafer-Suszeptoren

TaC-beschichtete Graphitwafer-Suszeptoren

Semicorex TaC-beschichtete Graphit-Wafer-Suszeptoren sind hochmoderne Komponenten, die typischerweise zur stabilen Unterstützung und Positionierung der Halbleiter-Wafer während moderner Halbleiter-Epitaxieprozesse eingesetzt werden. Durch den Einsatz modernster Produktionstechnologien und ausgereifter Fertigungserfahrung ist Semicorex bestrebt, unseren geschätzten Kunden maßgeschneiderte TaC-beschichtete Graphit-Wafer-Suszeptoren in marktführender Qualität zu liefern.

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CVD-TaC-beschichtete Suszeptoren

CVD-TaC-beschichtete Suszeptoren

Semicorex CVD TaC-beschichtete Suszeptoren sind Hochleistungs-Graphit-Suszeptoren mit einer dichten TaC-Beschichtung, die für eine hervorragende thermische Gleichmäßigkeit und Korrosionsbeständigkeit für anspruchsvolle epitaktische SiC-Wachstumsprozesse ausgelegt sind. Semicorex kombiniert fortschrittliche CVD-Beschichtungstechnologie mit strenger Qualitätskontrolle, um langlebige, kontaminationsarme Suszeptoren bereitzustellen, denen globale SiC-Epi-Hersteller vertrauen.*

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