Semikorex -Kantenringe werden von den führenden Halbleiter Fabs und OEMs weltweit vertrauen. Semicorex bietet Lösungen, die die Lebensdauer erweitern, Wafer-Gleichmäßigkeit optimieren und erweiterte Prozessknoten unterstützen.*
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex SIC-Roboterhände sind hochpräzisen, ultra-geplante Endeffektoren, die für einen sicheren und zuverlässigen Wafertransfer in der Semiconductor-Herstellung entwickelt wurden.
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex CVD SIC-Randring ist eine Hochleistungs-Plasma-Komponente, die zur Verbesserung der Ätzeinheit werden und Waferkanten in der Semiconductor-Herstellung schützt. Wählen Sie Semicorex für unübertroffene Materialreinheit, Präzisionstechnik und nachgewiesene Zuverlässigkeit in fortgeschrittenen Plasma -Prozessumgebungen.*
WeiterlesenAnfrage absendenSemikorex -Gasverteilungsplatten aus CVD SIC sind eine kritische Komponente in Plasmaetchsystemen, die eine gleichmäßige Gasdispersion und eine konsistente Plasmaleistung über den Wafer gewährleisten. Semicorex ist die vertrauenswürdige Wahl für leistungsstarke Keramiklösungen und bietet unübertroffene materielle Reinheit, technische Präzision und zuverlässige Unterstützung, die auf die Anforderungen einer fortschrittlichen Semiconductor-Herstellung zugeschnitten sind.**
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex Sic Coated Wafer Carrier sind hochpurige Graphitanpfans, die mit CVD-Siliziumcarbid beschichtet sind und für eine optimale Haffer-Unterstützung während der Hochtemperatur-Halbleiterprozesse ausgelegt sind. Wählen Sie Semicorex für unübertroffene Beschichtungsqualität, Präzisionsherstellung und nachgewiesene Zuverlässigkeit, die von den führenden Halbleiter Fabs weltweit vertraut ist.*
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex PFA-Wafer-Träger sind eine hohe Purität, chemisch resistente Lösung, die in ultra-verankerten Umgebungen sicher abwickelt und transportieren kann. Semicorex wird von führenden Fabs und OEMs vertraut und liefert präzisionsgesteuerte Fluggesellschaften mit konstanten Qualität, schnellen Vorlaufzeiten und vollständigen Anpassungen, um den sich entwickelnden Anforderungen einer fortschrittlichen Semiconductor-Herstellung gerecht zu werden.**
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