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Graphit-Waferhalter

Graphit-Waferhalter

Der SiC-beschichtete Graphit-Waferhalter von Semicorex ist eine Hochleistungskomponente, die für die präzise Handhabung von Wafern in Halbleiter-Epitaxie-Wachstumsprozessen entwickelt wurde. Das Fachwissen von Semicorex in den Bereichen fortschrittliche Materialien und Fertigung stellt sicher, dass unsere Produkte unübertroffene Zuverlässigkeit, Haltbarkeit und individuelle Anpassung für eine optimale Halbleiterproduktion bieten.*

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AlN-Keramiktiegel

AlN-Keramiktiegel

Der von Semicorex vorgestellte AlN-Keramiktiegel wurde für extreme Bedingungen entwickelt und ist ein unverzichtbares Werkzeug für Profis, die mit Nichteisenmetallen und Halbleitermaterialien wie Galliumarsenid arbeiten.

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Aluminiumoxid-Boot

Aluminiumoxid-Boot

Alumina Boat von Semicorex findet seine Nische in der Halbleiterindustrie, im allgemeinen Maschinenbau und bei Hochtemperaturprozessen und erweist sich als unverzichtbar für Profis, die Zuverlässigkeit und Präzision suchen.

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SiC-Keramikplatte

SiC-Keramikplatte

Die SiC-Keramikplatte von Semicorex bietet unübertroffene Leistung in Umgebungen, die Verschleißfestigkeit, Korrosionsbeständigkeit und Hochtemperaturstabilität erfordern. Dieses Produkt ist für den Einsatz als Auskleidungsplatten und Stützteile in einer Vielzahl anspruchsvoller Anwendungen konzipiert.

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Siliziumkarbid-Tablett

Siliziumkarbid-Tablett

Das Semicorex-Siliziumkarbid-Tablett ist so konstruiert, dass es extremen Bedingungen standhält und gleichzeitig eine bemerkenswerte Leistung gewährleistet. Es spielt eine entscheidende Rolle beim ICP-Ätzprozess, der Halbleiterdiffusion und dem MOCVD-Epitaxieprozess.

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AlN-Keramikscheibe

AlN-Keramikscheibe

Die AlN-Keramikscheibe von Semicorex zeichnet sich durch ein außergewöhnlich leistungsfähiges Material aus, das für seine einzigartige Kombination aus thermischen, mechanischen und elektrischen Eigenschaften geschätzt wird. Bei Semicorex sind wir führend bei der Herstellung von AlN-Keramikscheiben und stellen sicher, dass diese Komponenten den strengen Anforderungen moderner Technologie und industrieller Anwendungen gerecht werden.**

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