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Silizium -Carbid -Vakuum -Chuck

Silizium -Carbid -Vakuum -Chuck

Semicorex Silicon Carbid Vacuum Chuck ist eine Hochleistungs-Waferhandhabungslösung, die aus poröser Siliziumcarbid gefertigt wurde. Es ist speziell für die Vakuumadsorption von Halbleiterwafern während kritischer Prozesse wie Montage (Wachsen), Ausdünnen, Entwaxen, Reinigung, Würfeln und schnelles thermisches Tempern (RTA) entwickelt. Wählen Sie Semicorex für unübertroffene materielle Reinheit, dimensionale Präzision und zuverlässige Leistung in der anspruchsvollen Halbleiterumgebung.*

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Graphitstangenheizung

Graphitstangenheizung

Semicorex Graphit-Stangenheizung ist ein Hochleistungsheizelement, das für die gleichmäßige Hochtemperaturerzeugung innerhalb von Vakuumöfen ausgelegt ist. Wählen Sie Semicorex für sein Know-how in präzisionsmotorierten Graphitlösungen, die überlegene thermische Stabilität und eine lang anhaltende Leistung auf Ihre industriellen Bedürfnisse liefern.*

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Graphitelektrodenstange

Graphitelektrodenstange

Semikorex-Graphitelektrodenstangen sind hochpurige Graphitkomponenten, die als Kernheizelemente in Vakuumöfen verwendet werden. Wählen Sie Semicorex für unübertroffene Materialqualität, Präzisionsbearbeitung und zuverlässige Leistung in Hochtemperaturvakuumumgebungen.*

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Alumina -Roboterarm

Alumina -Roboterarm

Semicorex Alumina-Roboterarm ist eine Hochleistungskeramikkomponente für eine präzise Waferhandhabung bei der Herstellung von Halbleiter. Seine überlegene Stärke, Isolierung und thermische Stabilität machen es ideal, um Reinraumautomationsumgebungen zu fordern.*

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Aluminiumoxid -Keramik -End -Effektor

Aluminiumoxid -Keramik -End -Effektor

Semicorex Alumina Ceramic End Effector ist eine Präzisionsmotor-Komponente, die speziell für die zuverlässige und kontaminationsfreie Waferhandhabung bei der Herstellung von Halbleiter und verwandten Anwendungen entwickelt wurde.*

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Poröser Sic Chuck

Poröser Sic Chuck

Semicorex Porous SIC Chuck ist ein Hochleistungskeramik-Vakuum-Chuck für die sichere Adsorption der sicheren Wafer bei der Verarbeitung der Halbleiter. Die konstruierte mikroporöse Struktur sorgt für eine hervorragende Vakuumverteilung und sorgt für Präzisionsanwendungen ideal.*

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