Der CVD-SiC-Duschkopf von Semicorex ist eine Kernkomponente, die in Halbleiter-Ätzgeräten verwendet wird und sowohl als Elektrode als auch als Leitung für Ätzgase dient. Wählen Sie Semicorex aufgrund seiner hervorragenden Materialkontrolle, fortschrittlichen Verarbeitungstechnologie und zuverlässigen, langlebigen Leistung in anspruchsvollen Halbleiteranwendungen.*
WeiterlesenAnfrage absendenDer metallische Duschkopf, bekannt als Gasverteilerplatte oder Gasduschkopf, ist eine wichtige Komponente, die häufig in Halbleiterfertigungsprozessen eingesetzt wird. Seine Hauptfunktion besteht darin, Gase gleichmäßig in einer Reaktionskammer zu verteilen und sicherzustellen, dass Halbleitermaterialien gleichmäßig mit dem Prozess in Kontakt kommen Gase.**
WeiterlesenAnfrage absendenDas SiC-Keramikdichtungsteil von Semicorex ist ein Beweis für modernste Materialwissenschaft und Ingenieurskunst und wurde entwickelt, um die hohen Anforderungen leistungsstarker mechanischer Dichtungsanwendungen in einer Vielzahl von Branchen zu erfüllen.**
WeiterlesenAnfrage absendenDer MOCVD-Heizer von Semicorex ist eine hochentwickelte und sorgfältig konstruierte Komponente, die eine Vielzahl von Vorteilen bietet, darunter außergewöhnliche chemische Reinheit, thermische Effizienz, elektrische Leitfähigkeit, hohes Emissionsvermögen, Korrosionsbeständigkeit, Inoxidierbarkeit und mechanische Festigkeit.**
WeiterlesenAnfrage absendenDer von Semicorex entwickelte Semicorex MOCVD 3x2'' Susceptor stellt einen Gipfel an Innovation und technischer Exzellenz dar, der speziell auf die komplexen Anforderungen moderner Halbleiterfertigungsprozesse zugeschnitten ist.**
WeiterlesenAnfrage absendenDer TaC Coating Wafer Susceptor von Semicorex ist eine mit Tantalkarbid beschichtete Graphitschale, die beim epitaktischen Wachstum von Siliziumkarbid zur Verbesserung der Waferqualität und -leistung verwendet wird. Wählen Sie Semicorex aufgrund seiner fortschrittlichen Beschichtungstechnologie und langlebigen Lösungen, die hervorragende Ergebnisse bei der SiC-Epitaxie und eine längere Lebensdauer des Suszeptors gewährleisten.*
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