Der TaC-Beschichtungsführungsring von Semicorex dient als zentraler Bestandteil von Geräten zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung (MOCVD) und gewährleistet die präzise und stabile Zufuhr von Vorläufergasen während des epitaktischen Wachstumsprozesses. Der TaC-Beschichtungsführungsring verfügt über eine Reihe von Eigenschaften, die ihn ideal für den Einsatz unter den extremen Bedingungen in der MOCVD-Reaktorkammer machen.**
WeiterlesenAnfrage absendenDas Engagement von Semicorex für Qualität und Innovation zeigt sich im Segment der SiC-MOCVD-Abdeckungen. Indem es eine zuverlässige, effiziente und qualitativ hochwertige SiC-Epitaxie ermöglicht, spielt es eine entscheidende Rolle bei der Weiterentwicklung der Fähigkeiten von Halbleiterbauelementen der nächsten Generation.**
WeiterlesenAnfrage absendenDas Semicorex SiC MOCVD-Innensegment ist ein unverzichtbares Verbrauchsmaterial für metallorganische chemische Gasphasenabscheidungssysteme (MOCVD), die bei der Herstellung von epitaktischen Siliziumkarbid-Wafern (SiC) verwendet werden. Es ist genau darauf ausgelegt, den anspruchsvollen Bedingungen der SiC-Epitaxie standzuhalten und eine optimale Prozessleistung und hochwertige SiC-Epischichten zu gewährleisten.**
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex Ceramic Electrostatic Chuck (ESC) ist ein Spezialwerkzeug, das sorgfältig gefertigt wurde, um den strengen Anforderungen der Halbleiterfertigung gerecht zu werden. Mit unserem unerschütterlichen Engagement, qualitativ hochwertige Produkte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten, sind wir bereit, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.*
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex Electrostatic Chuck (ESC) ist eine fortschrittliche Komponente für die Halbleiterfertigung, die darauf ausgelegt ist, Halbleiterwafer während verschiedener Verarbeitungsphasen sicher zu halten. Mit unserem Engagement, qualitativ hochwertige Produkte zu wettbewerbsfähigen Preisen zu liefern, sind wir bereit, Ihr langfristiger Partner in China zu sein.*
WeiterlesenAnfrage absendenDer Semicorex-Siliziumkarbid-Wafer-Chuck ist eine wesentliche Komponente im Halbleiter-Epitaxieprozess. Es dient als Vakuumspannvorrichtung, um Wafer während kritischer Fertigungsphasen sicher zu halten. Wir sind bestrebt, qualitativ hochwertige Produkte zu wettbewerbsfähigen Preisen zu liefern und positionieren uns als Ihr langfristiger Partner in China.*
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