Sic Finger
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Semicorex-Sic-Finger sind präzisionsmotorierte Komponenten aus hochreinigem Siliziumcarbid, das für die extremen Anforderungen der Semiconductor-Herstellung entwickelt wurde. Auswahl von Semicorex bedeutet Zugang zu fortgeschrittenem materiellem Know-how, hochpräziser Verarbeitung und zuverlässigen Lösungen, die in Anträgen kritischer Waferhandhabungen vertrauen.**

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Produktbeschreibung

Semicorex -Sic -Finger sind spezielle Teile, deren primäre Anwendungen sich in Semiconductor -Verarbeitungsgeräten befinden, insbesondere bei den Waferhandhabungs- und -unterstützungssystemen. Ihre Hauptfunktion besteht darin, Wafer bei Prozessen wie EPITAXIE, ION -Implantation oder thermische Behandlung zu unterstützen oder zu halten, bei denen die dimensionale Stabilität oder Sauberkeit sowie die Zuverlässigkeit kritisch ist. Siliziumcarbid kombiniert die mechanische Festigkeit mit ausgezeichnetem thermischem und chemischen Widerstand, und diese Eigenschaften sind in fortgeschrittenen Halbleiterfabriklinien erforderlich, sodass SIC -Finger in solchen Anwendungen unverzichtbar sind.


Das Verkaufsmerkmal vonSiliziumkarbidAls Material ist die Fähigkeit, extrem hohen Betriebstemperaturen standzuhalten, ohne seine mechanische Integrität zu verlieren. Bei Halbleiterprozessen wie dem epitaxialen Wachstum erleben Wafer plötzlich erhöhte Temperaturen. The SiC Fingers once engaged will maintain their alignment and strength throughout the high-temperature cycles so the wafers remain in place, minimizing movement to avoid deformation or misalignment to maintain adequate process uniformity to achieve acceptable device yield. SIC-Finger bieten viel länger als typische Keramik- oder Metallträger und sind in hoher Temperaturlasten viel konsistenter.


Ein wesentlicher Vorteil von Sic -Fingern ist ihre überlegene chemische Resistenz. Alle Halbleiteranwendungen umfassen reaktive Gase, Exposition gegenüber Plasmen und Exposition gegenüber korrosiven Chemikalien. Das korrodbare oder verfallene Material reagiert durch Freisetzung von Partikeln oder Verunreinigungen, die die Qualität der Wafer beeinträchtigen können.Siliziumkarbidhat eine chemisch inerte Oberfläche, die aggressive Chemikalien nicht befestigt oder reagiert, wodurch eine saubere Prozessumgebung und ein erheblich reduziertes Risiko für Kontaminationen erzeugt wird. Dies erhöht die Haltbarkeit des Waferhandhabungswerkzeugs und trägt direkt zu stabilen und wiederholbaren Prozessergebnissen bei, die für die Erzeugung von Halbleitergeräten mit hoher Ausbeute von entscheidender Bedeutung sind.


Präzision ist eine weitere wichtige Überlegung bei der Gestaltung des SIC -Fingers. Wafer handling entails components with extremely tight tolerances, micrometers can cause wafer misalignment, increase the potential for breaking the wafer, or cause inconsistencies in processes. By utilizing the latest in machining and polishing technology, SiC Fingers can be produced with theh highest dimensional tolerances and surface flatness and smooth finish. This guarantees a stable, relatively inertia free platform for wafer support with reduced potential for particle formation, and repeated performance of wafer handling applications in automatic semiconductor processing equipment.


Zusätzlich zu den Vorteilen des Grundmaterials von SIC -Fingern können sie auch für die einzelnen Ausrüstungs- oder Prozessanforderungen spezifisch gemacht werden. Unterschiedliche Wafergrößen, unterschiedliche Reaktorkonstruktionen und unterschiedliche Bedienerbehandlungen erfordern spezifische hergestellte Lösungen. SIC -Finger können in jeder Geometrie oder Dimension hergestellt werden, und die Oberflächenbehandlung kann als geeignet für bestimmte Anwendungen angewendet werden.


SIC -Finger senken auch die Betriebskosten aufgrund ihrer langen Nutzungsdauer (Senkung der Ersatzhäufigkeit) und ihrer reduzierten Abflüsse aufgrund des Versagens oder der Ablagerungskontamination durch thermische oder chemische Stress. Mit der Haltbarkeit und Zuverlässigkeit für Halbleiterhersteller führt die Nutzung von SIC -Fingern zu einer höheren Verfügbarkeit, geringeren Verbrauchskosten und einer verbesserten Prozesswirkungsgrad.


Practically, SiC Fingers are utilized mostly in epitaxy growth reactors, as they provide stable wafer holding during extreme thermal and chemical processes. Sie werden auch in Ionen -Implantern oder Hochtemperaturdenkeln verwendet, bei denen mechanische Stabilität sowie chemische Trägheit kritisch sind. Across applications, consistent performance also makes their use in wafer handling critical in providing process uniformity, wafer integrity, and quality.


Semicorex -Sic -Finger sind starke Beispiele für die Vorteile vonSiliziumkarbidmaterial Für hohe Temperaturen, chemisch resistente, präzisionsgeführte Halbleiterkomponenten. The material environment of SiC Fingers provide high temperature stability, exceptional chemical resistance, and the ability to manufacture to high precision standards. A robust and customizable component is critical to achieving stable production and improved yield and cost efficiency for semiconductor manufacturers. SIC -Finger sind weiterhin eine fortschrittliche und zuverlässige Lösung für FABS, die sich auf Prozessstabilität und Qualitätssicherung konzentrieren.


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