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Semicorex ist ein professioneller Hersteller und Zulieferer in China. Unsere Fabrik stellt Fass-Suszeptoren, MoCVD-Suszeptoren, Wafer-Boote usw. her. Extremes Design, hochwertige Rohstoffe, hohe Leistung und wettbewerbsfähige Preise sind das, was jeder Kunde wünscht, und das können wir Ihnen auch bieten. Wir legen Wert auf hohe Qualität, angemessene Preise und perfekten Service.
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SiC-Keramik-Wärmeübertragungsplatten

SiC-Keramik-Wärmeübertragungsplatten

Semicorex SiC-Keramik-Wärmeübertragungsplatten, die auf SiC als Primärmaterial basieren, werden einem Hochtemperatursintern bei 2250 °C unterzogen, was zu einem hochgradig verglasten, dichten Keramikkörper ohne Porosität mit einem SiC-Gehalt von ≥99,3 % führt. Mit einer Biegefestigkeit von ≥410 MPa und einer Wärmeleitfähigkeit von 140 W/m.k sind diese Keramiken die einzigen Materialien, die der Korrosion durch starke Säuren wie Flusssäure (HF) und Schwefelsäure (H2SO4) in der Halbleiterindustrie standhalten können. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker SiC-Keramik-Wärmeübertragungsplatten, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden. **

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Strukturteile aus Siliziumkarbid-Keramik

Strukturteile aus Siliziumkarbid-Keramik

Semicorex-Siliziumkarbid-Keramikstrukturteile, die aus durch Sintern miteinander verbundenen Siliziumkarbidkörnern hergestellt werden, finden weitreichende Verwendung in den Bereichen Automobil, Mechanik, Chemie, Halbleiter, Raumfahrttechnik, Mikroelektronik und Energie und erfüllen in verschiedenen Anwendungen in diesen Branchen eine entscheidende Rolle. Aufgrund ihrer bemerkenswerten Eigenschaften sind Siliziumkarbid-Keramik-Strukturteile zu einem idealen Material für raue Bedingungen geworden, die durch hohe Temperaturen, hohe Drücke, Korrosion und Abrieb gekennzeichnet sind, und bieten zuverlässige Leistung und Langlebigkeit in anspruchsvollen Betriebsumgebungen.**

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Ultradünner Graphit mit hoher Porosität

Ultradünner Graphit mit hoher Porosität

Der ultradünne Graphit von Semicorex mit hoher Porosität wird hauptsächlich in der Halbleiterindustrie eingesetzt, insbesondere im Einkristallwachstumsprozess. Er zeichnet sich durch hervorragende Oberflächenhaftung, hervorragende Wärmebeständigkeit, hohe Porosität und ultradünne Dicke bei hervorragender Bearbeitbarkeit aus. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung von hochleistungsfähigem, ultradünnem Graphit mit hoher Porosität, der Qualität mit Kosteneffizienz verbindet. **

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Hochreines Kohlenstoffpulver

Hochreines Kohlenstoffpulver

Das hochreine Kohlenstoffpulver von Semicorex dient als entscheidender Vorläufer bei der Synthese von hochreinem Siliziumkarbidpulver (SiC) und anderen Festkörperkarbidmaterialien. Es gewährleistet die Reinheit und Qualität, die für anspruchsvolle Anwendungen in der Halbleiter-, Elektronik- und Keramikindustrie erforderlich sind. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung von hochleistungsfähigem, hochreinem Kohlenstoffpulver, das Qualität mit Kosteneffizienz verbindet.**

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2

2" Galliumoxid-Substrate

Semicorex 2"-Galliumoxidsubstrate stellen ein neues Kapitel in der Geschichte der Halbleiter der vierten Generation dar, mit einem beschleunigten Tempo der Massenproduktion und Kommerzialisierung. Diese Substrate bieten außergewöhnliche Vorteile für verschiedene fortschrittliche technologische Anwendungen. Galliumoxidsubstrate symbolisieren nicht nur einen bedeutenden Fortschritt in Halbleitertechnologie, sondern eröffnen auch neue Wege zur Verbesserung der Geräteeffizienz und -leistung in einem Spektrum wichtiger Branchen. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker 2-Zoll-Galliumoxidsubstrate, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.**

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4

4" Galliumoxid-Substrate

Semicorex 4" Galliumoxid-Substrate stellen ein neues Kapitel in der Geschichte der Halbleiter der vierten Generation dar, mit einem beschleunigten Tempo der Massenproduktion und Kommerzialisierung. Diese Substrate bieten außergewöhnliche Vorteile für verschiedene fortschrittliche technologische Anwendungen. Galliumoxid-Substrate symbolisieren nicht nur einen bedeutenden Fortschritt in Halbleitertechnologie, sondern eröffnen auch neue Wege zur Verbesserung der Geräteeffizienz und -leistung in einem Spektrum wichtiger Branchen. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker 4-Zoll-Galliumoxidsubstrate, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.**

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