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SIC-Spannfutter aus poröser Keramik

SIC-Spannfutter aus poröser Keramik

Die porösen Keramik-Debonding-Chucks von Semicorex SiC sind die wesentlichen Komponenten, die speziell für die Adsorption und Fixierung dünner ultradünner Wafer in der modernen Halbleiterfertigung entwickelt wurden. Semicorex ist bestrebt, unseren angesehenen Kunden präzisionsgefertigte poröse SiC-Keramikfutter mit marktführender Qualität anzubieten.
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SiC-Vakuumspannfutter aus poröser Keramik

SiC-Vakuumspannfutter aus poröser Keramik

Semicorex SiC-Vakuumspannfutter aus poröser Keramik sind hochspezialisierte Keramikvorrichtungen, die die spezielle Struktur poröser Siliziumkarbid-Keramikmaterialien nutzen, um eine Vakuumadsorption von Werkstücken zu erreichen. Durch den Einsatz modernster Produktionstechnologien und ausgereifter Fertigungserfahrung ist Semicorex bestrebt, unseren geschätzten Kunden marktführende, qualitativ hochwertige SiC-Vakuumspannfutter aus poröser Keramik anzubieten.
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CCB Carbon-Keramik-Bremsen

CCB Carbon-Keramik-Bremsen

Semicorex CCB Carbon-Keramik-Bremsen sind Hochleistungs-Verbundbremskomponenten, die optimale Lösungen speziell für Bremssysteme von High-End-Fahrzeugen darstellen. Dank der erfahrenen Fertigungstechnologie und dem Verfahren bietet Ihnen Semicorex ein sicheres und zuverlässiges Bremserlebnis.
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SiC-Keramik-Vakuumspannfutter

SiC-Keramik-Vakuumspannfutter

Semicorex SiC-Keramik-Vakuumspannfutter sind Präzisions-Vakuumadsorptionsgeräte aus Siliziumkarbidkeramik, mit denen Halbleiterwafer während der Verarbeitung und Inspektion präzise und stabil in bestimmten Positionen positioniert werden können. Der Einsatz von Semicorex SiC-Keramik-Vakuumspannfuttern kann dazu beitragen, die Ausbeute bei der Halbleiterfertigung zu verbessern, die Leistung von Halbleiterbauelementen zu verbessern und die Gesamtherstellungskosten zu senken.
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Graphitheizungen

Graphitheizungen

Semicorex-Graphitheizelemente sind präzisionsgefertigte Widerstandsheizelemente, die für die ultrahohen Reinheits- und Hochtemperaturanforderungen von Halbleiteröfen entwickelt wurden und speziell für MOCVD-, CVD- und SiC-Kristallwachstumsprozesse optimiert sind. Durch die Partnerschaft mit Semicorex erhalten Sie maßgeschneiderte Heizlösungen, die hochwertigen isostatischen Graphit mit fortschrittlichen Beschichtungstechnologien kombinieren und so eine branchenführende thermische Gleichmäßigkeit, eine kontaminationsfreie Leistung und deutlich niedrigere Gesamtbetriebskosten (TCO) gewährleisten.*
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Poröse Tantalkarbidringe

Poröse Tantalkarbidringe

Poröse Tantalkarbidringe von Semicorex sind leistungsstarke feuerfeste Komponenten, die speziell für den PVT-Prozess (Physical Vapour Transport) des Kristallwachstums von Siliziumkarbid (SiC) entwickelt wurden und über eine monolithische Sinterstruktur verfügen, die außergewöhnliche thermische Stabilität und kontrollierte Gasdurchlässigkeit bietet.*
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