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CVD-TaC-Beschichtungsring

CVD-TaC-Beschichtungsring

Der CVD-TaC-Beschichtungsring von Semicorex ist eine Hochleistungskomponente, die für anspruchsvolle Anwendungen entwickelt wurde, die außergewöhnliche Verschleißfestigkeit, thermische Stabilität und chemische Inertheit erfordern. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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GaN-auf-Si-Epi-Wafer-Chuck

GaN-auf-Si-Epi-Wafer-Chuck

Semicorex GaN-on-Si Epi Wafer Chuck ist ein präzisionsgefertigter Substrathalter, der speziell für die Handhabung und Verarbeitung von Galliumnitrid auf epitaktischen Siliziumwafern entwickelt wurde. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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SiC-Wafer-Suszeptoren für MOCVD

SiC-Wafer-Suszeptoren für MOCVD

Die SiC-Wafer-Suszeptoren von Semicorex für MOCVD sind ein Paradebeispiel für Präzision und Innovation und wurden speziell für die epitaktische Abscheidung von Halbleitermaterialien auf Wafern entwickelt. Aufgrund ihrer hervorragenden Materialeigenschaften können die Platten den strengen Bedingungen des epitaktischen Wachstums standhalten, einschließlich hoher Temperaturen und korrosiver Umgebungen, was sie für die hochpräzise Halbleiterfertigung unverzichtbar macht. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker SiC-Wafer-Suszeptoren für MOCVD, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.

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Waferträger mit SiC-Beschichtung

Waferträger mit SiC-Beschichtung

Die Semicorex-Waferträger mit SiC-Beschichtung, ein integraler Bestandteil des epitaktischen Wachstumssystems, zeichnen sich durch ihre außergewöhnliche Reinheit, Beständigkeit gegenüber extremen Temperaturen und robusten Dichtungseigenschaften aus und dienen als Ablage, die für die Unterstützung und Erwärmung von Halbleiterwafern während des Wachstums unerlässlich ist kritische Phase der Epitaxieschichtabscheidung und optimiert so die Gesamtleistung des MOCVD-Prozesses. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker Waferträger mit SiC-Beschichtung, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.

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GaN-Epitaxieträger

GaN-Epitaxieträger

Der Semicorex GaN Epitaxy Carrier ist von zentraler Bedeutung in der Halbleiterfertigung und integriert fortschrittliche Materialien und Präzisionstechnik. Dieser Träger zeichnet sich durch seine CVD-SiC-Beschichtung aus und bietet außergewöhnliche Haltbarkeit, thermische Effizienz und Schutzfunktionen, wodurch er sich in der Branche als herausragend erweist. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker GaN-Epitaxieträger, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.

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SiC-beschichtete Waferscheibe

SiC-beschichtete Waferscheibe

Die SiC-beschichtete Waferscheibe von Semicorex stellt einen führenden Fortschritt in der Halbleiterfertigungstechnologie dar und spielt eine wesentliche Rolle im komplexen Prozess der Halbleiterherstellung. Diese mit größter Präzision gefertigte Scheibe besteht aus hochwertigem SiC-beschichtetem Graphit und bietet hervorragende Leistung und Haltbarkeit für Siliziumepitaxieanwendungen. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker SiC-beschichteter Waferscheiben, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.

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