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Sic Oxidationsrohr

Sic Oxidationsrohr

Semicorex SIC-Oxidationsrohr ist eine Hochleistungskomponente, die in sic-Rohröfen für die thermische Verarbeitung fortschrittlicher Halbleiter verwendet wird. Es ist für langfristige Stabilität unter extremen Bedingungen ausgelegt. Wählen Sie Semicorex für unsere überlegene Materialreinheit, die enge dimensionale Kontrolle und die konsistente Produktqualität, wodurch Sie bei jedem Hochtemperaturlauf optimale Ergebnisse erzielen.**

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8 Zoll EPI Top Ring

8 Zoll EPI Top Ring

Semicorex 8 -Zoll -EPI -Top -Ring ist eine sic -beschichtete Graphitkomponente, die für die Verwendung als oberer Abdeckring in epitaxialen Wachstumssystemen entwickelt wurde. Wählen Sie Semicorex für seine branchenführende Materialreinheit, präzise Bearbeitung und konsistente Beschichtungsqualität, die eine stabile Leistung und die Lebensdauer der Komponenten bei hochtemperaturen Halbleiterprozessen gewährleisten.**

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8 Zoll EPI BOTOR RING

8 Zoll EPI BOTOR RING

Semicorex 8 Zoll EPI Bottom Ring ist eine robuste sic beschichtete Graphitkomponente, die für die epitaxiale Waferverarbeitung essentiell ist. Wählen Sie in jedem Produktionszyklus Semicorex für unübertroffene Materialreinheit, Präzision und zuverlässige Leistung.*

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8. Zoll EPI -Unterstützer

8. Zoll EPI -Unterstützer

Semicorex 8 Zoll EPI SUPPTOR ist ein Hochleistungs-SIC-beschichteter Graphit-Wafer-Träger für die Verwendung in epitaxialen Ablagerungsgeräten. Die Auswahl von Semicorex sorgt dafür, dass überlegene materielle Reinheit, Präzisionsherstellung und konsistente Produktzuverlässigkeit auf die anspruchsvollen Standards der Halbleiterindustrie zugeschnitten sind.*

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Aluminiumoxidmontage -Basisplatten

Aluminiumoxidmontage -Basisplatten

Semicorex-Aluminiumoxid-Montage-Basisplatten sind Hochleistungs-Keramikkomponenten für eine präzise Waferhandhabung bei der Herstellung von Halbleiter. Seine überlegene Stärke, Isolierung und thermische Stabilität machen es ideal, um Reinraumautomationsumgebungen zu fordern.*

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Silizium -Carbid -Vakuum -Chuck

Silizium -Carbid -Vakuum -Chuck

Semicorex Silicon Carbid Vacuum Chuck ist eine Hochleistungs-Waferhandhabungslösung, die aus poröser Siliziumcarbid gefertigt wurde. Es ist speziell für die Vakuumadsorption von Halbleiterwafern während kritischer Prozesse wie Montage (Wachsen), Ausdünnen, Entwaxen, Reinigung, Würfeln und schnelles thermisches Tempern (RTA) entwickelt. Wählen Sie Semicorex für unübertroffene materielle Reinheit, dimensionale Präzision und zuverlässige Leistung in der anspruchsvollen Halbleiterumgebung.*

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