Die Semicorex SiC ICP-Platte ist eine fortschrittliche Halbleiterkomponente, die speziell für die strengen Anforderungen moderner Halbleiterfertigungsprozesse entwickelt wurde. Dieses Hochleistungsprodukt wurde mit der neuesten Siliziumkarbid-Materialtechnologie (SiC) entwickelt und bietet beispiellose Haltbarkeit, Effizienz und Zuverlässigkeit, was es zu einem wesentlichen Bestandteil bei der Herstellung modernster Halbleiterbauelemente macht. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden*.
WeiterlesenAnfrage absendenDie Semicorex SiC ICP-Ätzplatte ist eine fortschrittliche und unverzichtbare Komponente in der Halbleiterindustrie, die entwickelt wurde, um die Präzision und Effizienz von Ätzprozessen zu verbessern. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden*.
WeiterlesenAnfrage absendenDer Semicorex Alumina End Effector hat sich zu einem unverzichtbaren Werkzeug im anspruchsvollen Bereich der Halbleiterfertigung entwickelt, wo selbst mikroskopische Unvollkommenheiten die Geräteleistung beeinträchtigen können. Die Rolle der präzisen Waferhandhabung kann nicht genug betont werden. Der Aluminiumoxid-Endeffektor bietet eine einzigartige Kombination aus Präzision, Reinheit und Haltbarkeit, die für die Handhabung empfindlicher Siliziumwafer in verschiedenen Herstellungsprozessen unerlässlich ist.**
WeiterlesenAnfrage absendenDas kundenspezifische SiC-Cantilever-Paddel von Semicorex ist zu einer unverzichtbaren Komponente in der Photovoltaikindustrie geworden und spielt eine entscheidende Rolle bei der effizienten und präzisen Handhabung von Siliziumwafern während Hochtemperatur-Diffusionsprozessen. Das kundenspezifische SiC-Cantilever-Paddel, das sorgfältig aus Hochleistungskeramik aus Siliziumkarbid (SiC) gefertigt wurde, bietet eine einzigartige Mischung von Eigenschaften, die für die Aufrechterhaltung der Waferintegrität, die Gewährleistung der Prozesseinheitlichkeit und die Maximierung der Produktivität in anspruchsvollen Diffusionsofenumgebungen unerlässlich sind.**
WeiterlesenAnfrage absendenDer TaC-Beschichtungstiegel von Semicorex hat sich zu einem unverzichtbaren Werkzeug bei der Suche nach hochwertigen Halbleiterkristallen entwickelt und ermöglicht Fortschritte in der Materialwissenschaft und Geräteleistung. Die einzigartige Kombination von Eigenschaften des TaC-Beschichtungstiegels macht ihn ideal für die anspruchsvollen Umgebungen von Kristallwachstumsprozessen geeignet und bietet deutliche Vorteile gegenüber herkömmlichen Materialien.**
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex TaC-beschichtete Rohre stellen einen Höhepunkt der Materialwissenschaft dar und wurden entwickelt, um den extremen Bedingungen standzuhalten, die in der modernen Halbleiterfertigung auftreten. Das TaC-beschichtete Rohr entsteht durch Auftragen einer dichten, gleichmäßigen TaC-Schicht auf ein hochreines isotropes Graphitsubstrat mittels chemischer Gasphasenabscheidung (CVD) und bietet eine überzeugende Kombination von Eigenschaften, die herkömmliche Materialien in anspruchsvollen Hochtemperatur- und chemisch aggressiven Umgebungen übertreffen. **
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