Siliziumwafer

Siliziumwafer sind dünne, kreisförmige Siliziumkristallscheiben, die bei der Herstellung integrierter Schaltkreise und anderer Mikrogeräte verwendet werden. Typischerweise werden diese Siliziumwafer in einem sorgfältigen Prozess hergestellt, bei dem ein Einkristallbarren aus hochreinem Silizium gezüchtet und anschließend präzise in dünne Scheiben geschnitten wird. Siliziumwafer dienen als grundlegendes Substrat, auf dem Halbleiterbauelemente aufgebaut werden.

Semicorex-Siliziumwafer gibt es in verschiedenen Größen mit einem Durchmesser von einigen Zoll bis über einem Fuß. Die gängigsten Größen sind 100 mm (4 Zoll), 150 mm (6 Zoll) und 300 mm (12 Zoll). Die Wahl der Wafergröße hängt von Faktoren wie Fertigungseffizienz, Geräteausbeute und Kostenüberlegungen ab.

Siliziumwafer besitzen außergewöhnliche elektrische Eigenschaften und eignen sich daher ideal für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Ihre kristalline Struktur ermöglicht eine präzise Dotierung mit Verunreinigungen, um Bereiche unterschiedlicher elektrischer Leitfähigkeit zu erzeugen, die für die Bildung von Transistoren, Dioden und anderen elektronischen Bauteilen unerlässlich sind.