Semicorex Silicon Annealing Boat, das sorgfältig für die Handhabung und Verarbeitung von Siliziumwafern entwickelt wurde, spielt eine entscheidende Rolle bei der Herstellung leistungsstarker Halbleiterbauelemente. Aufgrund seiner einzigartigen Designmerkmale und Materialeigenschaften ist es für kritische Herstellungsschritte wie Diffusion und Oxidation unverzichtbar, gewährleistet eine gleichmäßige Verarbeitung, maximiert die Ausbeute und trägt zur Gesamtqualität und Zuverlässigkeit von Halbleiterbauelementen bei.**
Ultrahohe Reinheit für makellose Verarbeitungsumgebungen: Das aus ultrahochreinem Silizium (bis zu 13N Reinheit) gefertigte Semicorex-Siliziumglühschiffchen minimiert das Risiko einer Kontamination während der Hochtemperaturverarbeitung. Diese außergewöhnliche Reinheit stellt sicher, dass die Wafer einer makellosen Umgebung ausgesetzt sind, und verhindert so das Einbringen unerwünschter Verunreinigungen, die die Geräteleistung beeinträchtigen und die Ausbeute verringern können.
Reduzierter Waferkontakt für minimalen Schaden:Die glatte, polierte Oberfläche des Silicon Annealing Boat minimiert die Kontaktpunkte mit den Wafern und reduziert so das Risiko von Kratzern, Absplitterungen oder anderen mechanischen Schäden während des Transports und der Verarbeitung erheblich. Diese sorgfältige Handhabung bewahrt die Integrität der Wafer, verbessert die Gesamtausbeute des Prozesses und trägt zu einer höheren Qualität der Geräte bei.
Anpassbare Designs für optimierte Leistung: Die Designs des Silizium-Glühschiffchens können an spezifische Prozessanforderungen angepasst werden, einschließlich Variationen in Schiffsform, Länge, Winkel und Anzahl der Wafer-Stützzähne. Diese Anpassung ermöglicht die Optimierung der Gasströmungsdynamik, der Temperaturgleichmäßigkeit und des Waferabstands innerhalb des Ofens und sorgt so für konsistente und wiederholbare Verarbeitungsergebnisse für eine Vielzahl von Gerätegeometrien und Prozessparametern.
Hohe Polysilizium-Abscheidungsgrenze für längeren Betrieb:Das Silizium-Glühboot bietet eine hohe Toleranz gegenüber Polysiliziumablagerungen und ermöglicht so einen längeren Betrieb, bevor eine Reinigung oder ein Austausch erforderlich ist. Diese verlängerte Lebensdauer reduziert die wartungsbedingten Ausfallzeiten der Geräte und trägt so zu einer höheren Produktionskapazität und niedrigeren Gesamtherstellungskosten bei.