SiC-Keramik-Wafer-Boot

Das SiC-Keramik-Wafer-Boot von Semicorex hat sich zu einer entscheidenden Basistechnologie entwickelt, die eine unerschütterliche Plattform für die Hochtemperaturverarbeitung bietet und gleichzeitig die Wafer-Integrität schützt und die für Hochleistungsgeräte erforderliche Reinheit gewährleistet. Es ist auf die Halbleiter- und Photovoltaikindustrie zugeschnitten, die auf Präzision setzt. Jeder Aspekt der Waferverarbeitung, von der Abscheidung bis zur Diffusion, erfordert eine sorgfältige Kontrolle und makellose Umgebungen. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker SiC-Keramik-Wafer-Boote, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.**

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Produktbeschreibung

Semicorex SiC-Keramik-Waferboote zeichnen sich durch eine einzigartige Kombination von Materialeigenschaften aus, die es ideal für die Anforderungen der Halbleiter- und Photovoltaikfertigung geeignet machen:

Unerschütterliche Hochtemperaturstabilität:Bei der Waferverarbeitung treten häufig extreme Temperaturen auf, die herkömmliche Materialien an ihre Grenzen bringen. Das SiC-Keramik-Wafer-Boot weist eine außergewöhnliche Hochtemperaturbeständigkeit auf und behält seine strukturelle Integrität und seine mechanischen Eigenschaften auch bei Temperaturen über 1650 °C (3000 °F). Dies ermöglicht ihren Einsatz in kritischen Prozessen wie Diffusion und Glühen, bei denen eine präzise Temperaturkontrolle und Waferstabilität von größter Bedeutung sind.

Uneinnehmbare Festung gegen Korrosion:Die aggressiven Chemikalien und aggressiven Substanzen, die in der Halbleiter- und Photovoltaikfertigung verwendet werden, stellen eine erhebliche Herausforderung für die Materialintegrität dar. Das SiC-Keramik-Wafer-Boot weist im Vergleich zu den meisten Metallen und anderen Keramiken eine überlegene Korrosionsbeständigkeit auf und hält einer längeren Einwirkung einer Vielzahl von Säuren, Lösungsmitteln, Salzen und organischen Verbindungen stand. Diese Inertheit gewährleistet die Langlebigkeit des Bootes, verhindert eine Kontamination durch Materialabbau und gewährleistet die Reinheit kritischer Prozessschritte.

Mühelose Sauberkeit für kompromisslose Reinheit:Die Erhaltung makelloser Waferoberflächen ist für die Erzielung hoher Geräteausbeuten und Leistung von größter Bedeutung. Die porenfreie Oberfläche des SiC-Keramik-Wafer-Boots und die Beständigkeit gegen chemische Angriffe machen die Reinigung außerordentlich einfach. Verunreinigungen werden leicht entfernt, wodurch eine Kreuzkontamination zwischen Prozessabläufen verhindert und die makellose Umgebung gewährleistet wird, die für leistungsstarke Halbleiter- und Photovoltaikgeräte erforderlich ist.

Belastbarkeit gegenüber thermischer und mechanischer Belastung:Die Waferverarbeitung ist oft mit schnellen Temperaturänderungen und mechanischer Handhabung verbunden, die zu Spannungen führen und empfindliche Materialien beschädigen können. Die robusten mechanischen Eigenschaften des SiC-Keramik-Wafer-Bootes, einschließlich hoher Härte und außergewöhnlicher Temperaturwechselbeständigkeit, gewährleisten seine strukturelle Integrität auch unter anspruchsvollen Bedingungen. Dies minimiert das Risiko der Partikelbildung oder Waferbeschädigung und trägt zu höheren Erträgen und einer gleichbleibenden Produktqualität bei.

Rutschfreier Transport für unerschütterliche Präzision:Eine präzise Waferhandhabung ist entscheidend, um Schäden zu verhindern und eine konsistente Verarbeitung sicherzustellen. Die inhärente Gleitfähigkeit und der niedrige Reibungskoeffizient des SiC-Keramik-Wafer-Bootes sorgen für eine natürlich rutschfeste Oberfläche. Dies ermöglicht eine reibungslose, kontrollierte Waferbewegung beim Be- und Entladen und minimiert das Risiko von Kratzern, Absplitterungen oder anderen Schäden, die die Waferintegrität beeinträchtigen könnten.