Der Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor ist ein äußerst langlebiges und zuverlässiges Produkt zum Aufwachsen epixieller Schichten auf Wafer-Chips. Aufgrund seiner Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen und seiner hohen Reinheit eignet es sich für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Sein gleichmäßiges thermisches Profil, das laminare Gasströmungsmuster und die Vermeidung von Kontaminationen machen es zur idealen Wahl für das Wachstum hochwertiger Epixieschichten.
WeiterlesenAnfrage absendenMit seinem hohen Schmelzpunkt, seiner Oxidationsbeständigkeit und Korrosionsbeständigkeit ist der SiC-beschichtete Zylindersuszeptor von Semicorex die perfekte Wahl für den Einsatz in Einkristallwachstumsanwendungen. Seine Siliziumkarbidbeschichtung sorgt für außergewöhnliche Ebenheit und Wärmeverteilungseigenschaften und sorgt so für zuverlässige und konstante Leistung selbst in den anspruchsvollsten Hochtemperaturumgebungen.
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