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SiC-beschichtete Graphit-MOCVD-Suszeptoren

SiC-beschichtete Graphit-MOCVD-Suszeptoren

SiC-beschichtete Graphit-MOCVD-Suszeptoren sind die wesentlichen Komponenten, die in Geräten zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung (MOCVD) verwendet werden und für das Halten und Erhitzen von Wafersubstraten verantwortlich sind. Aufgrund ihres überlegenen Wärmemanagements, ihrer chemischen Beständigkeit und Dimensionsstabilität gelten SiC-beschichtete Graphit-MOCVD-Suszeptoren als optimale Option für die Epitaxie hochwertiger Wafersubstrate.
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SiC-beschichtete Graphittiegel

SiC-beschichtete Graphittiegel

SiC-beschichtete Graphittiegel sind unverzichtbare Behälter, die aus mit Siliziumkarbid beschichtetem Graphitmaterial präzisionsgefertigt werden und eine hervorragende Hochtemperaturbeständigkeit und chemische Korrosionsbeständigkeit bieten. Mit ihrer überlegenen Leistung und zuverlässigen Qualität sind die SiC-beschichteten Graphittiegel von Semicorex die optimale Lösung für eine kontrollierte, hochwertige Kristallproduktion.
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SiC-Thermoelement-Schutzrohre

SiC-Thermoelement-Schutzrohre

​Die aus hochwertigen Siliziumkarbidmaterialien hergestellten SIC-Thermoelement-Schutzrohre sind fortschrittliche Keramiklösungen, die dazu dienen, Thermoelemente vor dem normalen Betrieb in anspruchsvollen Hochtemperaturumgebungen zu schützen. Wählen Sie Semicorex für präzisionsgefertigte SIC-Thermoelement-Schutzrohre, die gleichbleibende Qualität, kostengünstige Preise und maximale Kühleffizienz gewährleisten.
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SSIC-Dichtringe

SSIC-Dichtringe

Mit hervorragender Härte, ausgezeichneter Verschleißfestigkeit, bemerkenswerter Hochtemperaturbeständigkeit und starker chemischer Stabilität sind SSIC-Dichtringe zu einer unersetzlichen Dichtungslösung in modernen Bearbeitungsprozessen geworden. Es ist voll kompatibel mit anspruchsvollen, komplexen Arbeitsbedingungen wie hohen Temperaturen, hohem Druck und starker Korrosion.
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SICOI-Wafer

SICOI-Wafer

Der SICOI-Wafer, ein Siliziumkarbid-Isolator-Verbundwafer, der mit einer speziellen Technik hergestellt wird, wird hauptsächlich in photonischen integrierten Schaltkreisen und mikroelektromechanischen Systemen (MEMS) verwendet. Diese Verbundstruktur kombiniert die hervorragenden Eigenschaften von Siliziumkarbid mit den Isolationseigenschaften von Isolatoren, verbessert die Gesamtleistung von Halbleiterbauelementen erheblich und bietet ideale Lösungen für elektronische und optoelektronische Hochleistungsgeräte.
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SiC-Prozessrohre

SiC-Prozessrohre

Semicorex SiC-Prozessrohre werden aus hochreiner SiC-Keramik mit CVD-SiC-Beschichtung hergestellt und eignen sich für horizontale Öfen in der Halbleiterindustrie. Im Hinblick auf die Produktqualität und den Kundendienst ist Semicorex derjenige, der qualitativ hochwertige Geschäfte mit seinen weltweiten Kunden tätigen möchte.*
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