Der CVD-Siliziumkarbid-Duschkopf von Semicorex ist eine wesentliche und hochspezialisierte Komponente im Halbleiterätzprozess, insbesondere bei der Herstellung integrierter Schaltkreise. Mit unserem unerschütterlichen Engagement, qualitativ hochwertige Produkte zu wettbewerbsfähigen Preisen zu liefern, sind wir bereit, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.*
WeiterlesenAnfrage absendenDer Semicorex SiC-Beschichtungsring ist eine entscheidende Komponente in der anspruchsvollen Umgebung von Halbleiterepitaxieprozessen. Mit unserem unerschütterlichen Engagement, qualitativ hochwertige Produkte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten, sind wir bereit, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.*
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex stellt seinen SiC-Scheibensuszeptor vor, der die Leistung von Geräten für Epitaxie, metallorganische chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD) und schnelle thermische Verarbeitung (RTP) steigern soll. Der sorgfältig konstruierte SiC-Scheibensuszeptor verfügt über Eigenschaften, die überlegene Leistung, Haltbarkeit und Effizienz in Hochtemperatur- und Vakuumumgebungen garantieren.**
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex Graphite Thermal Field kombiniert modernste Materialwissenschaft mit einem tiefen Verständnis von Kristallwachstumsprozessen und liefert eine innovative Lösung, die es der Halbleiterindustrie ermöglicht, neue Leistungs-, Effizienz- und Kosteneffizienzniveaus zu erreichen.**
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex LPE SiC-Epi Halfmoon ist ein unverzichtbarer Aktivposten in der Welt der Epitaxie und bietet eine robuste Lösung für die Herausforderungen, die sich aus hohen Temperaturen, reaktiven Gasen und strengen Reinheitsanforderungen ergeben.**
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex CVD TaC Coating Cover hat sich zu einer entscheidenden Technologie in den anspruchsvollen Umgebungen in Epitaxiereaktoren entwickelt, die durch hohe Temperaturen, reaktive Gase und strenge Reinheitsanforderungen gekennzeichnet sind und robuste Materialien erfordern, um ein gleichmäßiges Kristallwachstum sicherzustellen und unerwünschte Reaktionen zu verhindern.**
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