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Ultradünner Graphit mit hoher Porosität

Der ultradünne Graphit von Semicorex mit hoher Porosität wird hauptsächlich in der Halbleiterindustrie eingesetzt, insbesondere im Einkristallwachstumsprozess. Er zeichnet sich durch hervorragende Oberflächenhaftung, hervorragende Wärmebeständigkeit, hohe Porosität und ultradünne Dicke bei hervorragender Bearbeitbarkeit aus. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung von hochleistungsfähigem, ultradünnem Graphit mit hoher Porosität, der Qualität mit Kosteneffizienz verbindet. **

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Hochreines Kohlenstoffpulver

Das hochreine Kohlenstoffpulver von Semicorex dient als entscheidender Vorläufer bei der Synthese von hochreinem Siliziumkarbidpulver (SiC) und anderen Festkörperkarbidmaterialien. Es gewährleistet die Reinheit und Qualität, die für anspruchsvolle Anwendungen in der Halbleiter-, Elektronik- und Keramikindustrie erforderlich sind. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung von hochleistungsfähigem, hochreinem Kohlenstoffpulver, das Qualität mit Kosteneffizienz verbindet.**

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2" Galliumoxid-Substrate

Semicorex 2"-Galliumoxidsubstrate stellen ein neues Kapitel in der Geschichte der Halbleiter der vierten Generation dar, mit einem beschleunigten Tempo der Massenproduktion und Kommerzialisierung. Diese Substrate bieten außergewöhnliche Vorteile für verschiedene fortschrittliche technologische Anwendungen. Galliumoxidsubstrate symbolisieren nicht nur einen bedeutenden Fortschritt in Halbleitertechnologie, sondern eröffnen auch neue Wege zur Verbesserung der Geräteeffizienz und -leistung in einem Spektrum wichtiger Branchen. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker 2-Zoll-Galliumoxidsubstrate, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.**

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4" Galliumoxid-Substrate

Semicorex 4" Galliumoxid-Substrate stellen ein neues Kapitel in der Geschichte der Halbleiter der vierten Generation dar, mit einem beschleunigten Tempo der Massenproduktion und Kommerzialisierung. Diese Substrate bieten außergewöhnliche Vorteile für verschiedene fortschrittliche technologische Anwendungen. Galliumoxid-Substrate symbolisieren nicht nur einen bedeutenden Fortschritt in Halbleitertechnologie, sondern eröffnen auch neue Wege zur Verbesserung der Geräteeffizienz und -leistung in einem Spektrum wichtiger Branchen. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker 4-Zoll-Galliumoxidsubstrate, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.**

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Aluminiumoxid-Keramikflansche

Aluminiumoxid-Keramikflansche sind technische Komponenten, die erhebliche Vorteile bieten, insbesondere in Umgebungen, in denen thermische Stabilität, Gewichtsaspekte und Korrosionsbeständigkeit von größter Bedeutung sind. Diese Flansche sind nicht nur langlebig und zuverlässig, sondern tragen auch zur Gesamteffizienz und Kosteneffizienz der Systeme bei, in denen sie eingesetzt werden. Ihre einzigartigen Eigenschaften machen sie zu einer ausgezeichneten Wahl für fortschrittliche technische Lösungen in verschiedenen Industriebereichen. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker Aluminiumoxidkeramikflansche, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.**

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Aluminiumoxid-Vakuumfutter

Semicorex Alumina Vacuum Chuck ist eine Präzisionshaltevorrichtung, die für fortschrittliche Fertigungs- und Forschungsanwendungen entwickelt wurde. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden*.

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