Der Semicorex-Siliziumkarbid-Wafer-Chuck ist eine wesentliche Komponente im Halbleiter-Epitaxieprozess. Es dient als Vakuumspannvorrichtung, um Wafer während kritischer Fertigungsphasen sicher zu halten. Wir sind bestrebt, qualitativ hochwertige Produkte zu wettbewerbsfähigen Preisen zu liefern und positionieren uns als Ihr langfristiger Partner in China.*
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex SiC Ceramic Chuck ist eine hochspezialisierte Komponente, die für den Einsatz in Halbleiter-Epitaxieprozessen entwickelt wurde, wo ihre Rolle als Vakuum-Chuck von entscheidender Bedeutung ist. Mit unserem Engagement, qualitativ hochwertige Produkte zu wettbewerbsfähigen Preisen zu liefern, sind wir bereit, Ihr langfristiger Partner in China zu sein.*
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex hat sich der Herstellung und Lieferung von Tiegeln für monokristallines Silizium verschrieben, die sich durch außergewöhnliche Reinheit, hervorragende thermische Eigenschaften, mechanische Festigkeit und Kompatibilität mit etablierten Wachstumsmethoden auszeichnen und sie für die Erfüllung der strengen Anforderungen der Elektronik- und Solarindustrie unverzichtbar machen.**
WeiterlesenAnfrage absendenDer Semicorex CVD SiC Showerhead ist eine wesentliche Komponente in modernen CVD-Prozessen zur Erzielung hochwertiger, gleichmäßiger dünner Filme mit verbesserter Effizienz und Durchsatz. Die hervorragende Gasflusskontrolle, der Beitrag zur Filmqualität und die lange Lebensdauer des CVD-SiC-Duschkopfes machen ihn für anspruchsvolle Halbleiterfertigungsanwendungen unverzichtbar.**
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex SiC ALD Susceptor bietet zahlreiche Vorteile in ALD-Prozessen, darunter Hochtemperaturstabilität, verbesserte Filmgleichmäßigkeit und -qualität, verbesserte Prozesseffizienz und längere Suszeptorlebensdauer. Diese Vorteile machen den SiC-ALD-Suszeptor zu einem wertvollen Werkzeug für die Erzielung leistungsstarker Dünnfilme in verschiedenen anspruchsvollen Anwendungen.**
WeiterlesenAnfrage absendenDer Semicorex ALD Planetary Susceptor ist in ALD-Geräten wichtig, da er rauen Verarbeitungsbedingungen standhält und eine qualitativ hochwertige Filmabscheidung für eine Vielzahl von Anwendungen gewährleistet. Da die Nachfrage nach fortschrittlichen Halbleiterbauelementen mit kleineren Abmessungen und verbesserter Leistung weiter wächst, wird erwartet, dass der Einsatz des ALD Planetary Susceptor in ALD weiter zunehmen wird.**
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