CVD-SiC-Fokusring für 2L10-506419-21

Während des Plasmaätzprozesses kann die ungleichmäßige Plasmaverteilung in der Reaktionskammer zu schwerwiegenden Defekten am Waferrand führen, die die Ausbeute an Halbleiterbauelementen verringern. Semicorex CVD-SiCFokusringfür 2L10-506419-21 ist die ideale Komponente, um dieses Problem anzugehen. Es wird normalerweise auf dem elektrostatischen Chuck installiert und um den Waferrand herum platziert. Der Semicorex CVD SiC-Fokusring für 2L10-506419-21 ist in der Lage, Plasma auf der Waferoberfläche zu fokussieren und die elektrische Feldverteilung innerhalb der Reaktionskammer zu optimieren. Auf diese Weise kann das Phänomen der Überätzung der Waferkanten wirksam verhindert und so präzise und gleichmäßige Ätzergebnisse gewährleistet werden.

Funktionen des Semicorex CVD SiC Fokusrings für 2L10-506419-21

1.Es kann die Ätzgleichmäßigkeit verbessern und eine konstante Ätzrate zwischen Wafermitte und -kante aufrechterhalten, wodurch die Ausbeute der endgültigen Halbleiterchips gesteigert wird.

2.Es kann dazu beitragen, stabile Ätzbedingungen zu schaffen, um Prozessabweichungen und Partikelkontaminationen durch ungleichmäßige Plasmaverteilung zu minimieren.

3.Es kann die Waferkante abschirmen, um plasmainduziertes Überätzen und Kantenschäden zu verhindern.

Hervorragende Materialeigenschaften

SemicorexCVD-SiCDer Fokusring für 2L10-506419-21 ist präzise aus massiven CVD-SiC-Materialien gefertigt. Der CVD-Prozess kann die strukturelle und funktionelle Leistung von Siliziumkarbid erheblich verbessern, wodurch der Semicorex CVD SiC-Fokusring für 2L10-506419-21 die folgenden hervorragenden Eigenschaften aufweist, um komplexe Ätzbetriebsumgebungen zu erfüllen.

1.Ultrahohe Reinheit und sein Verunreinigungsgehalt beträgt weniger als 5 ppm.

2.Hohe mechanische Festigkeit dank ihrer dichten Innenstruktur.

3. Hervorragende Wärmemanagementfähigkeit, bei einer Temperatur von etwa 2000 °C tritt kein Schmelzen oder Erweichen im Material auf.

4. Außergewöhnliche Korrosionsbeständigkeit, es kann dem Plasmaätzen und der Erosion durch Prozessgase wie HF, HCl und NH₃ standhalten.

Hochpräzise Qualitätskontrolle

Bei Semicorex stehen die Präzision und Qualität der Komponenten stets an erster Stelle und die Herstellung von CVD-SiC-Fokusringen erfolgt streng nach den professionellen Präzisionsstandards der Halbleiterindustrie. Dadurch wird sichergestellt, dass der Semicorex-CVD-SiC-Fokusring für 2L10-506419-21 eine perfekte Passform und eine nahtlose Montage mit TEL VIGUS RK4-Geräten bietet.