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Produkte
Semicorex ist ein professioneller Hersteller und Zulieferer in China. Unsere Fabrik stellt Fass-Suszeptoren, MoCVD-Suszeptoren, Wafer-Boote usw. her. Extremes Design, hochwertige Rohstoffe, hohe Leistung und wettbewerbsfähige Preise sind das, was jeder Kunde wünscht, und das können wir Ihnen auch bieten. Wir legen Wert auf hohe Qualität, angemessene Preise und perfekten Service.
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SiC-beschichteter Zylindersuszeptor für epitaktisches LPE-Wachstum
Der SiC-beschichtete Zylindersuszeptor von Semicorex für das epitaxiale LPE-Wachstum ist ein Hochleistungsprodukt, das für eine konstante und zuverlässige Leistung über einen längeren Zeitraum ausgelegt ist. Sein gleichmäßiges thermisches Profil, das laminare Gasströmungsmuster und die Vermeidung von Kontaminationen machen es zur idealen Wahl für das Wachstum hochwertiger Epitaxieschichten auf Waferchips. Seine Anpassbarkeit und Kosteneffizienz machen es zu einem äußerst wettbewerbsfähigen Produkt auf dem Markt.
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Laufempfänger-Epi-System
Das Semicorex Barrel Susceptor Epi System ist ein hochwertiges Produkt, das eine hervorragende Beschichtungshaftung, hohe Reinheit und Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen bietet. Sein gleichmäßiges thermisches Profil, das laminare Gasströmungsmuster und die Vermeidung von Kontaminationen machen es zur idealen Wahl für das Wachstum von Epixieschichten auf Waferchips. Seine Kosteneffizienz und Anpassbarkeit machen es zu einem äußerst wettbewerbsfähigen Produkt auf dem Markt.
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Flüssigphasenepitaxie (LPE)-Reaktorsystem
Das Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reaktorsystem ist ein innovatives Produkt, das eine hervorragende thermische Leistung, ein gleichmäßiges thermisches Profil und eine hervorragende Beschichtungshaftung bietet. Seine hohe Reinheit, Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen und Korrosionsbeständigkeit machen es zur idealen Wahl für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Seine anpassbaren Optionen und seine Kosteneffizienz machen es zu einem äußerst wettbewerbsfähigen Produkt auf dem Markt.
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CVD-Epitaxialabscheidung im Trommelreaktor
Der Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor ist ein äußerst langlebiges und zuverlässiges Produkt zum Aufwachsen epixieller Schichten auf Wafer-Chips. Aufgrund seiner Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen und seiner hohen Reinheit eignet es sich für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Sein gleichmäßiges thermisches Profil, das laminare Gasströmungsmuster und die Vermeidung von Kontaminationen machen es zur idealen Wahl für das Wachstum hochwertiger Epixieschichten.
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Epitaktische Siliziumabscheidung im Trommelreaktor
Wenn Sie einen Hochleistungs-Graphit-Suszeptor für den Einsatz in Halbleiterfertigungsanwendungen benötigen, ist der Semicorex Silicon Epitaxial Deposition In Barrel Reactor die ideale Wahl. Seine hochreine SiC-Beschichtung und außergewöhnliche Wärmeleitfähigkeit bieten hervorragende Schutz- und Wärmeverteilungseigenschaften und machen es zur ersten Wahl für zuverlässige und konstante Leistung selbst in den anspruchsvollsten Umgebungen.
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Induktiv beheiztes Barrel-Epi-System
Wenn Sie einen Graphitsuszeptor mit außergewöhnlichen Wärmeleitfähigkeits- und Wärmeverteilungseigenschaften benötigen, sind Sie beim induktiv beheizten Zylinder-Epi-System von Semicorex genau richtig. Seine hochreine SiC-Beschichtung bietet hervorragenden Schutz in Hochtemperatur- und korrosiven Umgebungen und macht es zur idealen Wahl für den Einsatz in Halbleiterfertigungsanwendungen.
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