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Poröses Keramikfutter
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Poröses Keramikfutter

Das poröse Keramikfutter (Vakuumfutter) von Semicorex ist ein hochpräzises Werkzeug, das zum sicheren Halten von Wafern während Halbleiterherstellungsprozessen entwickelt wurde. Wenn Sie sich für Semicorex entscheiden, profitieren Sie von einer Lösung, die außergewöhnliche Leistung, Haltbarkeit und Anpassungsoptionen bietet und so eine verbesserte Produktionseffizienz und gleichbleibende Qualitätsstandards gewährleistet.*

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Produktbeschreibung

Poröses Keramikfutter von Semicorex, auch bekannt alsVakuumfutterist ein hochspezialisiertes Werkzeug, das für die präzise Handhabung von Wafern in Halbleiter- und Mikroelektronikprozessen entwickelt wurde. Dieses Spannfutter verfügt über eine einzigartige poröse Keramikstruktur, die es ihm ermöglicht, über die gesamte Oberfläche einen gleichmäßigen Vakuumdruck aufrechtzuerhalten und so eine sichere und stabile Positionierung empfindlicher Wafer während kritischer Verarbeitungsschritte wie Ätzen, Abscheiden und Lithografie zu gewährleisten. Wenn Sie sich für das poröse Keramikfutter von Semicorex entscheiden, entscheiden Sie sich für eine zuverlässige, langlebige und leistungsstarke Komponente, die die Präzision und Effizienz in der Halbleiterfertigung steigert.


Der Porous Ceramic Chuck ist eine fortschrittliche Komponente, die dazu dient, Halbleiterwafer mittels Vakuumsaugung sicher an Ort und Stelle zu halten und so eine stabile Oberfläche für verschiedene Herstellungsprozesse bereitzustellen. Das aus hochreinem, porösem Keramikmaterial gefertigte Spannfutter bietet sowohl mechanische Festigkeit als auch hervorragende thermische Beständigkeit. Seine Fähigkeit, den Vakuumdruck gleichmäßig zu verteilen und empfindliche Wafer zu stützen, macht ihn zu einem unverzichtbaren Gerät in der Halbleiterindustrie, insbesondere bei Anwendungen, die höchste Präzision und Wiederholbarkeit erfordern.


Merkmale und Vorteile

Das poröse Keramikfutter von Semicorex verfügt über ein innovatives poröses Design und fortschrittliche Keramikmaterialien, die eine gleichmäßige Vakuumverteilung gewährleisten. Dadurch werden Waferverwerfungen und -verzerrungen vermieden, was zu überlegenen Prozessausbeuten und Waferqualität führt.


Durch die gut kalibrierte Lochstruktur wird eine hervorragende Vakuumsaugung gewährleistet, die die Waferhaftung bei geringem Druck verbessert und das Risiko einer Kontamination oder Bewegung während der Verarbeitung erheblich verringern kann. Das ausgezeichnete thermische Stabilitätsdesign des Spannfutters ermöglicht es ihm, extrem hohen Temperaturen standzuhalten, wodurch es sich perfekt für Halbleiterprozesse wie Ätzen und chemische Gasphasenabscheidung (CVD) eignet.


Es besteht aus äußerst haltbarer, verschleißfester Keramik und bietet eine lange Lebensdauer, selbst in rauen Produktionsumgebungen, bei minimalem Wartungsaufwand. Semicorex bietet außerdem umfangreiche Anpassungsoptionen, einschließlich verschiedener Größen, Formen und Vakuumspezifikationen, um eine nahtlose Integration in Ihre Fertigungsausrüstung zu gewährleisten. Unser Produkt ist hochwertig und gut verarbeitet.


Darüber hinaus gewährleistet seine chemische Inertheit die Kompatibilität mit Reinraumbedingungen, verhindert Kontaminationen und bewahrt die Produktintegrität. Mit außergewöhnlicher Leistung, Haltbarkeit und geringem Wartungsaufwand bietet das Porous Ceramic Chuck eine kostengünstige Lösung, die die Kapitalrendite für Halbleiterhersteller maximiert.



Anwendungen in der Halbleiterfertigung


Der Porous Ceramic Chuck wird häufig in Halbleiterfertigungsprozessen eingesetzt, die eine sichere Waferhandhabung erfordern. Zu den wichtigsten Anwendungen gehören:



  • Radierung:Das Spannfutter gewährleistet eine stabile Waferpositionierung während des Plasmaätzens und verhindert Waferbewegungen oder -verzerrungen unter Vakuumbedingungen.
  • CVD:Bei chemischen Gasphasenabscheidungsprozessen hält das Spannfutter die Wafer während der Dünnschichtabscheidung sicher und sorgt für eine präzise Positionierung für eine gleichmäßige Beschichtung.
  • Lithografie:Das Spannfutter wird in Fotolithografieschritten verwendet, bei denen die Waferausrichtung und -stabilität für die Erzielung hochauflösender Muster von entscheidender Bedeutung sind.
  • Wafer-Bonding:Das Spannfutter bietet eine sichere Plattform für Wafer-Bonding-Prozesse und gewährleistet eine genaue Ausrichtung und Haftung ohne das Risiko einer Waferverschiebung.
  • Wafertest und -inspektion:Das Vakuumspannfutter hält die Wafer während der Prüfung und Inspektion sicher an Ort und Stelle und ermöglicht so hochpräzise Messungen und Fehlererkennung.



Bei Semicorex legen wir Wert auf Qualität, Zuverlässigkeit und Präzision. Unser poröses Keramikfutter wurde mit modernster Technologie und hochwertigen Materialien entwickelt, um optimale Leistung bei der Halbleiterverarbeitung zu liefern. Ganz gleich, ob es sich um hochpräzises Ätzen, Abscheiden oder Bonden handelt, unser Vakuumspannfutter garantiert einen stabilen und sicheren Waferhalt, reduziert das Kontaminationsrisiko und verbessert die Prozessausbeute. Wählen Sie Semicorex als vertrauenswürdigen Partner in der Halbleiterfertigung, der maßgeschneiderte Lösungen bietet, die auf Ihre spezifischen Produktionsanforderungen zugeschnitten sind.


Der Semicorex Porous Ceramic Chuck von Semicorex ist eine leistungsstarke, langlebige Lösung für die Waferhandhabung in der Halbleiterfertigung. Mit seiner fortschrittlichen porösen Struktur, der hervorragenden Vakuumretention und der thermischen Stabilität gewährleistet es eine präzise Waferpositionierung und reduziert die Prozessvariabilität. Das Porous Ceramic Chuck von Semicorex bietet langfristige Zuverlässigkeit und Anpassungsoptionen und ist ein unverzichtbares Werkzeug für Hersteller, die eine höhere Produktivität und konsistente Ergebnisse anstreben.


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