Das Kristallwachstum ist das zentrale Glied bei der Herstellung von Siliziumkarbid-Substraten, und die Kernausrüstung ist der Kristallwachstumsofen. Ähnlich wie bei herkömmlichen Kristallwachstumsöfen für kristallines Silizium ist die Ofenstruktur nicht sehr komplex und besteht hauptsächlich aus ein......
WeiterlesenDie Halbleitermaterialien mit großer Bandlücke der dritten Generation wie Galliumnitrid (GaN) und Siliziumkarbid (SiC) sind für ihre außergewöhnlichen optoelektronischen Umwandlungs- und Mikrowellensignalübertragungsfähigkeiten bekannt. Diese Materialien erfüllen die anspruchsvollen Anforderungen vo......
WeiterlesenSiliziumkarbid findet zahlreiche Anwendungen in aufstrebenden und traditionellen Industrien. Derzeit hat der globale Halbleitermarkt 100 Milliarden Yuan überschritten. Es wird erwartet, dass der weltweite Umsatz mit Halbleiterfertigungsmaterialien bis 2025 39,5 Milliarden US-Dollar erreichen wird, w......
WeiterlesenEin SiC-Boot, kurz für Siliziumkarbid-Boot, ist ein hochtemperaturbeständiges Zubehörteil, das in Ofenrohren zum Transport von Wafern während der Hochtemperaturverarbeitung verwendet wird. Aufgrund der herausragenden Eigenschaften von Siliziumkarbid wie Beständigkeit gegenüber hohen Temperaturen, ch......
WeiterlesenBei der herkömmlichen Herstellung von Silizium-Leistungsbauelementen sind Hochtemperaturdiffusion und Ionenimplantation die wichtigsten Methoden zur Dotierstoffkontrolle, jede mit ihren Vor- und Nachteilen. Typischerweise zeichnet sich die Hochtemperaturdiffusion durch ihre Einfachheit, Kosteneffizi......
WeiterlesenSiliziumkarbid (SiC) ist ein anorganischer Stoff. Die Menge an natürlich vorkommendem Siliziumkarbid ist sehr gering. Es ist ein seltenes Mineral und wird Moissanit genannt. Siliziumkarbid, das in der industriellen Produktion verwendet wird, wird größtenteils künstlich synthetisiert.
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