Semicorex Electrostatic Chuck ESC ist ein hochspezialisiertes Werkzeug zur Verbesserung der Präzision und Effizienz in Halbleiterfertigungsprozessen. Unsere E-Chucks haben einen guten Preisvorteil und decken viele der europäischen und amerikanischen Märkte ab. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.*
Semicorex Electrostatic Chuck ESC arbeitet nach dem Prinzip der elektrostatischen Adhäsion und nutzt einen Hochspannungs-Gleichstrom (DC), der an seine dielektrische Keramikschicht angelegt wird. Diese Technologie ermöglicht die sichere Befestigung von Wafern oder anderen Materialien während der Verarbeitung und sorgt so für Stabilität und Präzision in den verschiedenen Fertigungsphasen.
Wenn eine hohe Gleichspannung an die Spannvorrichtung angelegt wird, wandern die geladenen Ionen innerhalb der dielektrischen Keramikschicht und sammeln sich auf ihrer Oberfläche an. Dadurch entsteht ein starkes elektrostatisches Feld zwischen Spannfutter und zu bearbeitendem Produkt. Die erzeugte elektrostatische Anziehungskraft ist robust genug, um den Wafer an Ort und Stelle zu halten und sicherzustellen, dass er auch bei komplizierten und hochpräzisen Vorgängen unbeweglich bleibt. Dieser sichere Halt ist von entscheidender Bedeutung, da er dazu beiträgt, Mikrobewegungen und Vibrationen zu reduzieren, die die Qualität und Integrität der verarbeiteten Wafer beeinträchtigen könnten. Die Möglichkeit, Wafer mit minimalem mechanischen Kontakt zu befestigen, verhindert auch physische Schäden, was einen deutlichen Vorteil gegenüber herkömmlichen Klemmmethoden darstellt.
Das elektrostatische Spannfutter ESC vom Typ J-R ist mit eingebauten Elektroden ausgestattet, die für die Erzeugung dieser elektrostatischen Haftung unerlässlich sind. Diese Elektroden sind im Spannfutter positioniert, um die elektrostatische Kraft gleichmäßig über die Oberfläche des Wafers oder anderer zu verarbeitender Materialien zu verteilen. Diese gleichmäßige Verteilung sorgt für einen gleichmäßigen Druck, der für die Aufrechterhaltung der Gleichmäßigkeit bei komplexen Prozessen wie Ätzen, Ionenimplantation und Abscheidung erforderlich ist. Die präzise Haftung des Electrostatic Chuck ESC ermöglicht es ihm, den anspruchsvollen Spezifikationen der modernen Halbleiterfertigung gerecht zu werden.
Zusätzlich zu seiner Hauptfunktion der Haftung verfügt der Electrostatic Chuck ESC über ein ausgeklügeltes Temperaturkontrollsystem. Das Spannfutter verfügt über integrierte Heizelemente, die die Temperatur des zu verarbeitenden Produkts regulieren sollen. Die Temperaturkontrolle ist ein entscheidender Faktor bei der Halbleiterfertigung, da bereits geringfügige Temperaturschwankungen das Ergebnis des Prozesses beeinflussen können. Der Electrostatic Chuck ESC bietet eine Mehrzonen-Temperaturregelung, sodass verschiedene Abschnitte des Wafers unabhängig voneinander erhitzt oder gekühlt werden können. Dadurch wird sichergestellt, dass die Temperatur über die gesamte Oberfläche des Wafers konstant gehalten wird, was zu gleichmäßigen Verarbeitungsergebnissen führt und das Risiko von thermischen Schäden oder Verformungen verringert.
Ein weiteres bemerkenswertes Merkmal ist die Verwendung hochreiner Materialien bei der Konstruktion des Electrostatic Chuck ESC. Die für dieses Spannfutter ausgewählten Materialien sind darauf ausgelegt, die Partikelverunreinigung zu minimieren, was bei der Halbleiterfertigung ein entscheidendes Problem darstellt. Selbst kleine Partikel können Fehler in den herzustellenden Mikrostrukturen verursachen, was zu geringeren Ausbeuten und potenziellem Produktversagen führt. Durch die Verwendung hochreiner Materialien reduziert das Electrostatic Chuck ESC das Risiko, dass Verunreinigungen in die Verarbeitungsumgebung gelangen, und unterstützt so eine qualitativ hochwertige Produktion.
Das elektrostatische Spannfutter ESC ist beständig gegen Plasmaerosion. Bei vielen Halbleiterprozessen, insbesondere beim Ätzen und Abscheiden, ist die Spannvorrichtung reaktiven Plasmaumgebungen ausgesetzt. Im Laufe der Zeit kann diese Belastung die im Spannfutter verwendeten Materialien beschädigen und so dessen Leistung und Lebensdauer beeinträchtigen. Das elektrostatische Spannfutter ESC wurde speziell dafür entwickelt, Plasmaerosion zu widerstehen, sodass es seine strukturelle Integrität und Leistung auch in rauen Verarbeitungsumgebungen beibehält. Diese Haltbarkeit führt zu einer längeren Lebensdauer, reduziert die Notwendigkeit häufiger Austausche und minimiert Ausfallzeiten in der Produktionslinie.
Auch die mechanischen Eigenschaften des Electrostatic Chuck ESC sind von entscheidender Bedeutung. Das Spannfutter wird mit extrem engen Toleranzen hergestellt, um sicherzustellen, dass es die präzise Form und Abmessungen beibehält, die für seine spezifischen Anwendungen erforderlich sind. Um die erforderliche Ebenheit und Glätte der Oberfläche zu erreichen, werden hochpräzise Bearbeitungstechniken eingesetzt, die für eine gleichmäßige elektrostatische Haftung und die Minimierung des Risikos einer Beschädigung empfindlicher Wafer unerlässlich sind. Ebenso beeindruckend ist die mechanische Festigkeit des Chucks, die es ihm ermöglicht, den physikalischen Belastungen bei Hochtemperatur- und Hochdruckprozessen standzuhalten, ohne sich zu verformen oder seine Fähigkeit, den Wafer sicher zu halten, zu verlieren.