Fokussierring aus massivem Siliziumkarbid

Bei der Halbleiterfertigung spielt der Fokussierungsring aus massivem Siliziumkarbid von Semicorex eine entscheidende Rolle, indem er als Schutzschild fungiert und die Integrität des Wafers während des Ätzprozesses bewahrt. Sein sorgfältig konstruiertes Design gewährleistet ein präzises und gleichmäßiges Ätzen und erleichtert so die Herstellung hochkomplexer Halbleiterelemente, die eine überragende Leistung und Zuverlässigkeit aufweisen.

Siliziumkarbid ist das Material der Wahl für den Fokussierring, da es bei Einwirkung von Plasma in der Vakuumreaktionskammer eine überlegene Beständigkeit gegen Plasmakorrosion aufweist. Der Fokussierungsring aus massivem Siliziumkarbid übertrifft herkömmliches Silizium in mehreren Aspekten, darunter:

(1) Hohe Dichte, die die Ätzraten minimiert.

(2) Überlegene Bandlücke und hervorragende Isolationseigenschaften.

(3) Außergewöhnliche Wärmeleitfähigkeit, niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient und Temperaturwechselbeständigkeit.

(4) Hohe Elastizität bei gleichzeitig hervorragender Beständigkeit gegen mechanische Einwirkungen.

(5) Hervorragende Härte, Verschleißfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit.

Die Leitfähigkeit und Beständigkeit gegen Ionenätzen von Siliziumkarbid ähneln denen von Silizium, was den Fokussierungsring aus massivem Siliziumkarbid zu einem idealen Material für diese Anwendung macht.

Der Semicorex-Fokussierring aus massivem Siliziumkarbid gilt als hochmoderne Lösung im Bereich der Halbleiterfertigung. Es nutzt die einzigartigen Eigenschaften von CVD-SiC, um zuverlässige, leistungsstarke Ätzprozesse zu ermöglichen und trägt so erheblich zur Weiterentwicklung der Halbleitertechnologie bei.