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CVD-SiC-beschichteter Graphit-Duschkopf

CVD-SiC-beschichteter Graphit-Duschkopf

In einer Plasmavorrichtung zum Ätzen und zur chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) von Materialien auf Wafern werden Prozessgase durch einen CVD-SiC-beschichteten Graphit-Duschkopf in eine Prozesskammer geleitet. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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Produktbeschreibung

Der mit SiC (Chemical Vapour Deposition Silicon Carbide) beschichtete Graphitduschkopf von Semicorex CVD ist eine Spezialkomponente, die in verschiedenen industriellen Prozessen wie der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) und der plasmaunterstützten chemischen Gasphasenabscheidung (PECVD) verwendet wird. Es spielt eine entscheidende Rolle bei der Abgabe von Vorläufergasen oder reaktiven Spezies auf die Oberfläche eines Substrats während dieser Abscheidungsprozesse.

Der CVD-SiC-beschichtete Graphit-Duschkopf besteht aus hochreinem Graphit und ist im CVD-Verfahren mit einer dünnen SiC-Schicht beschichtet. CVD-SiC-beschichteter Graphit-Duschkopf vereint die vorteilhaften Eigenschaften von Graphit und SiC und ist somit ein wesentlicher Bestandteil in verschiedenen Abscheidungsprozessen, bei denen eine präzise und gleichmäßige Gasverteilung sowie Beständigkeit gegen hohe Temperaturen und chemische Umgebungen erforderlich sind.

 

Merkmale:

Chemische Resistenz

Thermische Stabilität

Glatte und gleichmäßige Oberfläche

Reduzierte Kontamination

 

 

 

 

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