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CVD-SiC-Duschkopf

CVD-SiC-Duschkopf

Der Semicorex CVD-SiC-Duschkopf bietet Langlebigkeit, hervorragendes Wärmemanagement und Beständigkeit gegen chemische Zersetzung und ist somit eine geeignete Wahl für anspruchsvolle CVD-Prozesse in der Halbleiterindustrie. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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Produktbeschreibung

Im Zusammenhang mit einem CVD-Duschkopf ist ein CVD-SiC-Duschkopf typischerweise dafür ausgelegt, Vorläufergase während des CVD-Prozesses gleichmäßig über die Substratoberfläche zu verteilen. Der Duschkopf wird normalerweise über dem Substrat positioniert und die Vorläufergase strömen durch kleine Löcher oder Düsen auf seiner Oberfläche.

Das im Duschkopf verwendete CVD-SiC-Material bietet mehrere Vorteile. Seine hohe Wärmeleitfähigkeit trägt dazu bei, die beim CVD-Prozess entstehende Wärme abzuleiten und sorgt so für eine gleichmäßige Temperaturverteilung über das Substrat. Darüber hinaus ermöglicht die chemische Stabilität von SiC, dass es korrosiven Gasen und rauen Umgebungen standhält, die üblicherweise bei CVD-Prozessen auftreten.

Das Design eines CVD-SiC-Duschkopfs kann je nach dem spezifischen CVD-System und den Prozessanforderungen variieren. Typischerweise besteht es jedoch aus einer platten- oder scheibenförmigen Komponente mit einer Reihe präzisionsgebohrter Löcher oder Schlitze. Das Lochmuster und die Geometrie sind sorgfältig konstruiert, um eine gleichmäßige Gasverteilung und Durchflussraten über die Substratoberfläche sicherzustellen.





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