Heim > Produkte > Wafer > SOI-Wafer > SOI-Wafer
SOI-Wafer
  • SOI-WaferSOI-Wafer

SOI-Wafer

Semicorex SOI Wafer ist ein Hochleistungs-Halbleitersubstrat, das über eine dünne Siliziumschicht auf einem Isoliermaterial verfügt und so die Geräteeffizienz, Geschwindigkeit und den Stromverbrauch optimiert. Mit anpassbaren Optionen, fortschrittlichen Fertigungstechniken und einem Fokus auf Qualität bietet Semicorex SOI-Wafer, die überragende Leistung und Zuverlässigkeit für eine Vielzahl modernster Anwendungen gewährleisten.*

Anfrage absenden

Produktbeschreibung

Semicorex SOI Wafer (Silicon On Insulator) ist ein hochmodernes Halbleitersubstrat, das den hohen Leistungsanforderungen der modernen Herstellung integrierter Schaltkreise (IC) gerecht wird. SOI-Wafer bestehen aus einer dünnen Siliziumschicht auf einem isolierenden Material, typischerweise Siliziumdioxid (SiO₂), und ermöglichen erhebliche Leistungssteigerungen in Halbleiterbauelementen, indem sie für die Isolierung zwischen verschiedenen elektrischen Komponenten sorgen. Diese Wafer sind besonders nützlich bei der Herstellung von Leistungsgeräten, HF-Komponenten (Hochfrequenzkomponenten) und MEMS (mikroelektromechanischen Systemen), bei denen Wärmemanagement, Energieeffizienz und Miniaturisierung von entscheidender Bedeutung sind.


SOI-Wafer bieten hervorragende elektrische Eigenschaften, einschließlich geringer parasitärer Kapazität, reduzierter Übersprechung zwischen Schichten und besserer thermischer Isolierung, was sie ideal für Hochfrequenz-, Hochgeschwindigkeits- und leistungsempfindliche Anwendungen in der modernen Elektronik macht. Semicorex bietet eine Vielzahl von SOI-Wafern an, die auf spezifische Fertigungsanforderungen zugeschnitten sind, einschließlich unterschiedlicher Siliziumdicken, Waferdurchmesser und Isolierschichten, um sicherzustellen, dass Kunden ein Produkt erhalten, das perfekt zu ihren Anwendungen passt.

Struktur und Funktionen

Ein SOI-Wafer besteht aus drei Hauptschichten: einer oberen Siliziumschicht, einer Isolierschicht (normalerweise Siliziumdioxid) und einem massiven Siliziumsubstrat. Die oberste Siliziumschicht oder Geräteschicht dient als aktiver Bereich, in dem Halbleiterbauelemente hergestellt werden. Die Isolierschicht (SiO₂) fungiert als elektrisch isolierende Barriere und sorgt für eine Trennung zwischen der oberen Siliziumschicht und dem Bulk-Silizium, das als mechanische Stütze für den Wafer fungiert.

Zu den Hauptmerkmalen des SOI-Wafers von Semicorex gehören:


Geräteschicht: Die oberste Siliziumschicht ist typischerweise dünn und variiert je nach Anwendung zwischen mehreren zehn Nanometern und mehreren Mikrometern. Diese dünne Siliziumschicht ermöglicht schnelles Schalten und geringen Stromverbrauch in Transistoren und anderen Halbleiterbauelementen.

Isolierschicht (SiO₂): Die Isolierschicht ist typischerweise zwischen 100 nm und mehreren Mikrometern dick. Diese Siliziumdioxidschicht sorgt für eine elektrische Isolierung zwischen der aktiven Deckschicht und dem massiven Siliziumsubstrat und trägt so dazu bei, parasitäre Kapazitäten zu reduzieren und die Geräteleistung zu verbessern.

Bulk-Siliziumsubstrat: Das Bulk-Siliziumsubstrat bietet mechanischen Halt und ist normalerweise dicker als die Geräteschicht. Es kann auch für bestimmte Anwendungen maßgeschneidert werden, indem sein spezifischer Widerstand und seine Dicke angepasst werden.

Anpassungsoptionen: Semicorex bietet eine Vielzahl von Anpassungsoptionen, darunter unterschiedliche Siliziumschichtdicken, Isolierschichtdicken, Waferdurchmesser (üblicherweise 100 mm, 150 mm, 200 mm und 300 mm) und Waferausrichtungen. Dadurch können wir SOI-Wafer liefern, die für ein breites Anwendungsspektrum geeignet sind, von der kleinen Forschung und Entwicklung bis hin zur Großserienproduktion.

Hochwertiges Material: Unsere SOI-Wafer werden aus hochreinem Silizium hergestellt, was eine geringe Defektdichte und eine hohe Kristallqualität gewährleistet. Dies führt zu einer überlegenen Geräteleistung und Ausbeute während der Herstellung.

Fortschrittliche Bondtechniken: Semicorex nutzt fortschrittliche Bondtechniken wie SIMOX (Separation by IMplantation of Oxygen) oder die Smart Cut™-Technologie zur Herstellung unserer SOI-Wafer. Diese Methoden gewährleisten eine hervorragende Kontrolle über die Dicke der Silizium- und Isolierschichten und sorgen für gleichbleibend hochwertige Wafer, die für die anspruchsvollsten Halbleiteranwendungen geeignet sind.


Anwendungen in der Halbleiterindustrie

SOI-Wafer sind aufgrund ihrer verbesserten elektrischen Eigenschaften und überlegenen Leistung in Hochfrequenz-, Niedrigleistungs- und Hochgeschwindigkeitsumgebungen in vielen fortschrittlichen Halbleiteranwendungen von entscheidender Bedeutung. Nachfolgend sind einige der wichtigsten Anwendungen der SOI-Wafer von Semicorex aufgeführt:


HF- und Mikrowellengeräte: Die Isolierschicht von SOI-Wafern trägt dazu bei, parasitäre Kapazitäten zu minimieren und eine Signalverschlechterung zu verhindern, was sie ideal für HF- (Hochfrequenz-) und Mikrowellengeräte, einschließlich Leistungsverstärker, Oszillatoren und Mischer, macht. Diese Geräte profitieren von der verbesserten Isolierung, was zu einer höheren Leistung und einem geringeren Stromverbrauch führt.


Leistungsgeräte: Die Kombination aus Isolierschicht und dünner oberer Siliziumschicht in SOI-Wafern ermöglicht ein besseres Wärmemanagement und macht sie perfekt für Leistungsgeräte, die eine effiziente Wärmeableitung erfordern. Zu den Anwendungen gehören Leistungs-MOSFETs (Metalloxid-Halbleiter-Feldeffekttransistoren), die von einem geringeren Leistungsverlust, schnelleren Schaltgeschwindigkeiten und einer verbesserten thermischen Leistung profitieren.



MEMS (Mikroelektromechanische Systeme): SOI-Wafer werden häufig in MEMS-Geräten verwendet, da sie über eine wohldefinierte, dünne Siliziumschicht verfügen, die leicht mikrobearbeitet werden kann, um komplexe Strukturen zu bilden. SOI-basierte MEMS-Geräte finden sich in Sensoren, Aktoren und anderen Systemen, die eine hohe Präzision und mechanische Zuverlässigkeit erfordern.


Fortschrittliche Logik- und CMOS-Technologie: SOI-Wafer werden in fortschrittlichen CMOS-Logiktechnologien (komplementäre Metalloxid-Halbleiter) zur Herstellung von Hochgeschwindigkeitsprozessoren, Speichergeräten und anderen integrierten Schaltkreisen verwendet. Die geringe parasitäre Kapazität und der reduzierte Stromverbrauch von SOI-Wafern tragen dazu bei, schnellere Schaltgeschwindigkeiten und eine höhere Energieeffizienz zu erreichen, Schlüsselfaktoren in der Elektronik der nächsten Generation.


Optoelektronik und Photonik: Das hochwertige kristalline Silizium in SOI-Wafern macht sie für optoelektronische Anwendungen wie Fotodetektoren und optische Verbindungen geeignet. Diese Anwendungen profitieren von der hervorragenden elektrischen Isolierung durch die Isolierschicht und der Möglichkeit, sowohl photonische als auch elektronische Komponenten auf demselben Chip zu integrieren.


Speichergeräte: SOI-Wafer werden auch in nichtflüchtigen Speicheranwendungen verwendet, einschließlich Flash-Speicher und SRAM (statischer Direktzugriffsspeicher). Die Isolierschicht trägt zur Aufrechterhaltung der Geräteintegrität bei, indem sie das Risiko elektrischer Störungen und Übersprechen verringert.


Die SOI-Wafer von Semicorex bieten eine fortschrittliche Lösung für eine Vielzahl von Halbleiteranwendungen, von HF-Geräten bis hin zu Leistungselektronik und MEMS. Mit außergewöhnlichen Leistungsmerkmalen, einschließlich geringer parasitärer Kapazität, reduziertem Stromverbrauch und hervorragendem Wärmemanagement, bieten diese Wafer eine verbesserte Geräteeffizienz und Zuverlässigkeit. Die SOI-Wafer von Semicorex können an spezifische Kundenbedürfnisse angepasst werden und sind die ideale Wahl für Hersteller, die Hochleistungssubstrate für die Elektronik der nächsten Generation suchen.





Hot-Tags: SOI-Wafer, China, Hersteller, Lieferanten, Fabrik, kundenspezifisch, Bulk, fortschrittlich, langlebig
Verwandte Kategorie
Anfrage absenden
Bitte zögern Sie nicht, Ihre Anfrage im untenstehenden Formular zu stellen. Wir werden Ihnen innerhalb von 24 Stunden antworten.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept