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SiN-Substrate
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SiN-Substrate

Semicorex-Siliziumnitrid-SiN-Substrate sind Hochleistungsmaterialien, die für ihre außergewöhnliche Festigkeit, Wärmeleitfähigkeit und chemische Stabilität bekannt sind und sich daher ideal für fortschrittliche Halbleiteranwendungen eignen. Wenn Sie sich für SiN-Substrate von Semicorex entscheiden, profitieren Sie von modernster Technologie, strenger Qualitätskontrolle und der Verpflichtung, zuverlässige, branchenführende Halbleiterkomponenten zu liefern.*

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Produktbeschreibung

Semicorex-Siliziumnitrid-SiN-Substrate sind fortschrittliche Keramikmaterialien mit außergewöhnlichen mechanischen, elektrischen und thermischen Eigenschaften. Diese Substrate bestehen aus Silizium- und Stickstoffatomen, die in einer kristallinen Struktur miteinander verbunden sind, was ihnen eine einzigartige Kombination aus Festigkeit, Haltbarkeit und Wärmebeständigkeit verleiht. SiN-Substrate sind zu einem unverzichtbaren Material in verschiedenen Hochleistungsanwendungen geworden, insbesondere in Halbleiterbauelementen, wo diese Eigenschaften die Zuverlässigkeit und Effizienz von integrierten Schaltkreisen (ICs), Sensoren und mikroelektromechanischen Systemen (MEMS) verbessern.


Hauptmerkmale


Hohe Festigkeit und Zähigkeit:SiN-Substrate sind im Vergleich zu anderen Keramikmaterialien für ihre überlegene mechanische Festigkeit und Zähigkeit bekannt. Ihre Fähigkeit, Rissen zu widerstehen und die strukturelle Integrität unter extremen Bedingungen aufrechtzuerhalten, macht sie äußerst wünschenswert für Anwendungen, bei denen mechanische Stabilität von entscheidender Bedeutung ist. Dies ist besonders wichtig bei Halbleiterprozessen, bei denen häufig eine Umgebung mit hoher Belastung und eine präzise Handhabung erforderlich sind.


Ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit:Das Wärmemanagement ist ein entscheidender Faktor für die Leistung von Halbleiterbauelementen. SiN-Substrate weisen eine hervorragende Wärmeleitfähigkeit auf und ermöglichen eine effiziente Wärmeableitung von aktiven Bereichen elektronischer Komponenten. Diese Eigenschaft gewährleistet einen optimalen Betrieb und verlängert die Lebensdauer von Geräten, indem sie Überhitzung verhindert, eine häufige Ursache für Leistungseinbußen.


Chemische Stabilität und Korrosionsbeständigkeit:Siliziumnitrid ist äußerst beständig gegen chemische Korrosion und eignet sich daher ideal für den Einsatz in rauen Umgebungen, in denen die Einwirkung von Chemikalien oder extremen Temperaturen ein Problem darstellt. SiN-Substrate behalten ihre strukturelle Integrität auch dann, wenn sie korrosiven Gasen, Säuren und Laugen ausgesetzt sind, und gewährleisten so eine langfristige Zuverlässigkeit in industriellen Anwendungen.


Niedrige Dielektrizitätskonstante:Eine der wesentlichen Anforderungen an Substrate in mikroelektronischen Geräten sind niedrige Werte der Dielektrizitätskonstanten. SiN-Substrate weisen niedrige Dielektrizitätskonstanten auf, was den Signalverlust reduziert und die elektrische Leistung integrierter Schaltkreise verbessert. Diese Funktion ist besonders wichtig bei Hochfrequenzanwendungen wie 5G-Kommunikationssystemen, bei denen die Signalintegrität von größter Bedeutung ist.


Thermoschockbeständigkeit:Siliziumnitrid-Substrate können schnellen Temperaturänderungen standhalten, ohne dass es zu Thermoschocks oder Rissen kommt. Diese Eigenschaft ist bei Anwendungen mit schwankenden thermischen Umgebungen wertvoll, beispielsweise in der Leistungselektronik und bei Hochtemperatursensoren, bei denen plötzliche Temperaturschwankungen üblich sind.


Semicorex-Siliziumnitrid-SiN-Substrate bieten einzigartige Eigenschaften, die sie in der Halbleiterindustrie und darüber hinaus unverzichtbar machen. Ihre Kombination aus mechanischer Festigkeit, Wärmeleitfähigkeit und chemischer Beständigkeit macht sie zu einem bevorzugten Material für Anwendungen, die hohe Zuverlässigkeit und Leistung erfordern. Ob in Halbleiterbauelementen, MEMS, Optoelektronik oder Leistungselektronik: SiN-Substrate bilden die Grundlage für Spitzentechnologien, die die Zukunft der Elektronik prägen.


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