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Si-Epitaxie

Si-Epitaxie

Die Si-Epitaxie ist eine entscheidende Technik in der Halbleiterindustrie, da sie die Herstellung hochwertiger Siliziumfilme mit maßgeschneiderten Eigenschaften für verschiedene elektronische und optoelektronische Geräte ermöglicht. . Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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Produktbeschreibung

Die Si-Epitaxie ermöglicht die Entwicklung spezifischer Schichteigenschaften wie Dicke, Dotierungskonzentration und Zusammensetzung. Durch das Einbringen kontrollierter Mengen an Verunreinigungen, sogenannten Dotierstoffen, in die Epitaxieschicht können die elektrischen Eigenschaften der resultierenden Geräte präzise angepasst werden. Dies ermöglicht die Schaffung verschiedener Regionen mit unterschiedlichen Leitfähigkeitstypen (n-Typ oder p-Typ) und gewünschten Ladungsträgerkonzentrationen, was die Integration komplexer elektronischer Schaltkreise ermöglicht.

Die Si-Epitaxie ist ein grundlegender Prozess bei der Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente, darunter Mikroprozessoren, Speicherchips, Bildsensoren und Solarzellen. Es spielt eine entscheidende Rolle bei der Verbesserung der Geräteleistung, Miniaturisierung und Funktionalität. Die Fähigkeit, hochwertige Epitaxieschichten mit präziser Kontrolle der Materialeigenschaften abzuscheiden, trägt zum kontinuierlichen Fortschritt und zur Innovation in der Halbleiterindustrie bei.




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