Der SiC-beschichtete Träger von Semicorex für das ICP-Plasmaätzsystem ist eine zuverlässige und kostengünstige Lösung für Hochtemperatur-Wafer-Handhabungsprozesse wie Epitaxie und MOCVD. Unsere Träger verfügen über eine feine SiC-Kristallbeschichtung, die eine hervorragende Hitzebeständigkeit, gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit und dauerhafte chemische Beständigkeit bietet.
WeiterlesenAnfrage absendenDer Waferhalter von Semicorex für den ICP-Ätzprozess ist die perfekte Wahl für anspruchsvolle Waferhandhabung und Dünnschichtabscheidungsprozesse. Unser Produkt zeichnet sich durch hervorragende Hitze- und Korrosionsbeständigkeit, gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit und optimale laminare Gasströmungsmuster für konsistente und zuverlässige Ergebnisse aus.
WeiterlesenAnfrage absendenDie Silizium-Ätzplatte von Semicorex für PSS-Ätzanwendungen ist ein hochwertiger, hochreiner Graphitträger, der speziell für epitaktische Wachstums- und Wafer-Handhabungsprozesse entwickelt wurde. Unser Träger hält rauen Umgebungen, hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung stand. Die Silizium-Ätzplatte für PSS-Ätzanwendungen verfügt über hervorragende Wärmeverteilungseigenschaften, eine hohe Wärmeleitfähigkeit und ist kostengünstig. Unsere Produkte sind in vielen europäischen und amerikanischen Märkten weit verbreitet und wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
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