Wenn es um Wafer-Handhabungsprozesse wie Epitaxie und MOCVD geht, ist die Hochtemperatur-SiC-Beschichtung für Plasmaätzkammern von Semicorex die erste Wahl. Unsere Träger bieten dank unserer feinen SiC-Kristallbeschichtung eine hervorragende Hitzebeständigkeit, gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit und dauerhafte chemische Beständigkeit.
WeiterlesenAnfrage absendenMit seiner außergewöhnlichen Wärmeleitfähigkeit und Wärmeverteilungseigenschaften ist die Semicorex-Zylinderstruktur für Halbleiter-Epitaxialreaktoren die perfekte Wahl für den Einsatz in LPE-Prozessen und anderen Halbleiterfertigungsanwendungen. Seine hochreine SiC-Beschichtung bietet hervorragenden Schutz in Umgebungen mit hohen Temperaturen und Korrosion.
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