MOCVD-Vakuumkammerdeckel, die bei der Kristallzüchtung und Waferhandhabung verwendet werden, müssen hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung standhalten. Der mit Siliziumkarbid beschichtete MOCVD-Vakuumkammerdeckel von Semicorex wurde speziell für die Bewältigung dieser anspruchsvollen Umgebungen entwickelt. Unsere Produkte haben einen guten Preisvorteil und decken viele europäische und amerikanische Märkte ab. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex SiC-beschichtete Graphitbasis-Suszeptoren für MOCVD sind Träger höchster Qualität, die in der Halbleiterindustrie verwendet werden. Unser Produkt besteht aus hochwertigem Siliziumkarbid, das eine hervorragende Leistung und lange Haltbarkeit bietet. Dieser Träger ist ideal für den Einsatz beim Wachstum einer Epitaxieschicht auf dem Wafer-Chip.
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